Газотермічне напилення

Газотермічним напиленням називають процес нанесення по­криття, оснований на нагріванні матеріалу до рідкого стану і розпи­лювання його на поверхні виробу газовим струменем. Використо­вують газополуменеве і газоелектричне напилення, де в якості напилювального матеріалу застосовують дроти, стрижні й порошки. Недоліком газополуменевого напилення є низька якість покриття, зумовлена низькою температурою полум'я, низькою швидкістю пе­ренесення частинок і великим вмістом оксидів у покритті. Вищу якість й простоту керування забезпечує газоелектричне напилення.

Суть електрометалізаційного напилення полягає в плавленні дроту електричною дугою і розпилюванні розплавленого металу стисненим повітрям. Розпилювання стисненим повіт­рям призводить до значного вигоряння компонентів та їх окиснення. Високочастотні металізатори відносяться до апаратів дротя­ного типу. Нагрівання дроту здійснюють струмом високої частоти. В якості джерела живлення використовують лампові генератори струмів високої частоти (70-500 кГц).

Продуктивність високочастотних металізаторів в 1,5-2,5 рази вища продуктивності електрометаліза-ційних. Недоліком цього способу є низький к.к.д. установок і віднос­но низька міцність зчеплення напилювального металу з основним. Високопродуктивним способом нанесення покриття є плазмове напилення, яке використовують для нанесення різних металів і сплавів із метою захисту деталей від спрацювання, корозії, ерозії, теплових ударів тощо. Напилені покриття мають міцне зчеплення з основним металом, високу щільність і гладку поверхню. В якості плазмоутворюючих газів використовують аргон, азот, гелій і суміші аргону з воднем та іншими газами. Напилювальні матеріали виго­товляють у вигляді порошку або дроту. Використовують гранульо­вані порошки розмірами 5-100 мкм, які для підвищення сипучості просушують при температурі 70-200°С протягом 2 год. Критерієм задовільного зчеплення є якісна підготовка поверхні основного ме­талу травленням, піскоструминною, термічною й механічною об­робкою. Напилення виконують за один прохід плазмотрона із швидкістю, яка забезпечує одержання товщини 15-100 мкм.