10月研究会

２００９年１０月研究会 (リソグラフィと微細化SRAM技術)

開催概要

プログラム

2009年10月23日(金）

13:00-13:05 はじめに 平本 俊郎（東京大学） 13:05-13:10 本研究会の開催の趣旨説明 オーガナイザ 13:10-14:10 半導体リソグラフィの発展と今後の展望 岡崎 信次 (EUVA) 14:10-15:00 多品種少量生産に向けたEB直接描画技術 丸山 隆司 (イー・シャトル) 15:00-15:15 休憩 15:15-16:05 SMO(Source Mask Optimization)とダブルパターニング 内山 貴之 (NECエレクトロニクス) 16:05-16:55 次世代リソグラフィ技術の課題 中嶋 由美 (東芝) 17:00-18:00 意見交換会

2009年10月24日(土）

9:00-9:50 Design Strategies and Tools for 22nm Brian Stine (PDF Solutions) 9:50-10:40 32nm世代以降を見据えたSRAM技術動向 山岡 雅直 (日立) 10:40-11:00 休憩 11:00-11:50 SRAM微細化トレンド維持のための回路技術 平林 修 (東芝) 11:50-12:00 まとめ オーガナイザ