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GOAL: 차세대 반도체 (2D TMDc)의 플라즈마 합성/식각 공정을 통하여 원자층 수 조절 및 다양한 분야 응용 및 AI 지능화 장비
TARGET: 2D TMDc phase controlled (MoS2, WS2, MoS2-WS2 Heterostructure)
Main Tools: PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), E-beam evaporator, Sputter, RIE (Reactive ion etcher)
APPLICATIONS: Phase engineering (1T, 2H phase), Defect engineering (S vacancy), Electronic devices (FET, Memristor, RAM, plasma doping), Materials characterization (all of spectroscopy, microscopy)
2025-Present: 학연교수 - 성균관대 기계공학과
2025-Present: 운영위원 - 한국진공학회, 반도체 및 박막 분과
2025-Present: 조직위원 - 대한기계학회, 열공학부문
2024-Present: 조교수 - UST 나노메카트로닉스과
2023-Present:지역조직위원 - EAPETEA
2023-2025: Guest Editor Special Issue in Sensors
2022-2024: 학술위원 - 한국진공학회, 반도체 및 박막 분과
2021-Present: 편집이사 - 대한기계학회, 열공학부문
2021-Present: Topic Editor 'Biosensors Section' in Sensors
2021-2022: Guest Editor 'Special Issue' in Sensors
2020-Present: 선임연구원 - 한국기계연구원
2019-2020: Post Doctor - Hersam Group in Northwestern Uni.
2019: Ph.D - 김태성 교수님 in SungKyunKwan Uni.