Research field
ALD process
Silicon-nanowire FETs
Oxide semiconductor (Cu2O)
2D material devices modeling & characterization (MoS2, WSe2 etc.)
Research field
a-IGZO TFTs
Device fabrication/characterization
Post-annealing technique
Modeling & characterization
Undergraduate (Intern)
-2025-
๊ฐ๋ณํ, ๊ณ ์ฑ์ผ, ๊ณ ์์ข , ๊ณ ํ์, ๊น๋ฒ๊ธฐ, ๊น์๋, ๊น์ง์ฑ, ๋ฐ๋์, ๋ฐ์คํฌ, ๋ฐฑ๋ฏผ๊ท, ์ ๊ด์ญ, ์์ฃผํฌ, ์ด์ฌํ, ์ด์ฑ์ฐ, ์์์, ์ ๋ณด๋ผ
-2024-
๊ถ์์ธ, ๊น์์ฐ, ๊น์์ค, ๊นํจ๊ฒฝ, ๋ ธ์ ์ค, ๋ฐฐ์ง์, ์๋ํ, ์ด๊ทํ, ์ด์ ์, ์ด์ ์ , ์กฐ์์
-2023-
์ก์ฌ์, ์ ๋ช ์ง, ์ ํ์ฐ, ์ด์ฑ์ด, ์์์ญ, ์ฅ๋ฏผ์ฐ, ์กฐ์๋