Apparatus

X線回折パターンを取得する装置です。

2台保有しており、1台は室温専用、もう1台は温調アタッチメントBTS500により、室温～500℃での測定が可能です。

試料を加熱または冷却したときに試料内に発生する熱エネルギーの変化を検出する熱分析装置です。

試料を一定速度で加熱、冷却しながら、その重量を連続的に測定する装置です。

試料の重量変化と温度の関係から、分解、酸化、還元、昇華、吸着、脱着などの反応に関する情報が得られます。 

液滴の接触角を測定する装置です。

測定者のワンクリックだけで、接触角の測定プロセスである定量液滴形成、着滴、解析、測定面移動の一連の繰り返し動作を全自動で行います。

試料に190-900nmの波長の光を順次照射し、対象の物質がその波長を吸収したり反射したりする様子を観察する装置です。

物質の同定や分子構造の解析など、様々な解析用途に用いられます。

物質により吸収された赤外線の波長を知る装置です。

物質は特定の赤外線波長に吸収のピークを持っている場合が多く、吸収された波長が分かればどのような分子結合を持っているか推定できるとともに、物質や分子構造を推定することが可能です。 

比表面積、細孔分布、細孔容量などを評価する装置です。 

BELSORP MINI Xの別置き前処理装置です。正確な吸着測定を行うためには、試料の前処理が必要です。 

プログラム温度調節機能や自動パージ停止機能、サンプル飛散防止対策として排気速度自動切り替え機能が搭載されております。 

BET表面積、細孔径分布等を測定する物理吸着分析装置です。

試料を昇温し、発生するガスの温度に対する濃度変化を分析します。 

試料を真空凍結乾燥する装置です。

ピラニ真空計により、精度の高い凍結乾燥が可能です。

試料焼結用の電気炉です。

最大1200℃まで加熱可能で、スピード昇温に対応しています。

管状炉3台、箱型炉4台を保有しています。

通常、大気（空気）中で試料を加熱すると酸化反応が進みます、試料によっては酸化を嫌い、炉内を低酸素にしてガス雰囲気の中での焼成が必要なものがあります。 これらに対応するために雰囲気制御または真空中で加熱します。

最大1600℃まで加熱可能です。

300-450nmの紫外線を照射する装置です。

照射強度、照射時間を自由にプログラムできます。

回転遠心力を利用した塗布装置です。

平滑な被塗物（ワーク）に対して薄く均等な塗膜を得ることができます。