我撕故我在,單層撕起來
探討單層二硫化鉬的量產與製備
H202 15 陳彥妤
H203 07 高千悅
H203 25 吳柏均
同步輻射中心 陳家浩教授
大家好我們是「我撕故我在 單層撕起來」,我們的實驗是在探討如何分離出單層MoS2。
MoS2是一種新興的半導體產業材料,被應用在光電二極體等電子元件上。塊材的層與層間以微弱的凡德瓦力結合,因此可以分離出單層MoS2。這種二維材料厚度只有0.7奈米,具高電子遷移率,屬於直接能隙半導體的一種,具有優於矽的種種性質。
此實驗以拉曼顯微鏡作為測量儀器,他的原理是利用入射光子讓物質吸收能量後釋放光子,回到一個與基態不同的狀態,使激發光的頻率與釋放出的光子不同,而這兩者的差距就是拉曼位移。在實驗中,我們透過入532nm雷射光,進而得知樣品厚度與結構。
我們設計一系列的實驗,嘗試透過二硫醇分子讓金面跟薄MoS2結合,進而將薄層MoS2從塊材中分離,並探討怎麼增加產量。接下來再將二硫醇分子的長碳鏈打斷,讓MoS2轉印到矽基板,以提高樣品與基板間的對比度。並探討何種能量來源的成效最佳。最後我們透過兩面金的疊合將金面上的薄層MoS2層數降低分離出單層MoS2。