Patent registration number / Patent name / Domestic·International / Inventor / Owner / Registration date

특허등록번호 / 특허명 / 구분 / 발명자 / 특허권자 / 연도(등록일자)

2024

[20] 10-2024-0159917 (국내 출원) / 작업자 안전용 실시간 비상산소공급장치 / 국내 / 최성환 / 한국생산기술연구원 /  2024-11-12 (출원일자).

[19] 10-2024-0099367 (국내 출원) / 다중채널층 산화물 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 / 국내 / 최성환, 김채연 / 한국생산기술연구원 /  2024-07-26 (출원일자).

       →  '25.5.12일 기준 OA 대응 중, 한국생산기술연구원에서 출원중인 건에 대해서 대응 종료 의사 전달

[18] 10-2024-0097618 (국내 출원) / 신축성 박막 반도체 소자 및 그 제조방법 / 국내 / 최성환, 김채연 / 한국생산기술연구원 /  2024-07-24 (출원일자).

[17] 10-2024-0097492 (국내 출원) / 강유전성 반도체소자, 강유전성 반도체소자의 제조방법 및 강유전성 반도체소자를 이용한 반도체 장치 / 국내 / 최성환, 이지수 / 한국생산기술연구원 /  2024-07-23 (출원일자).

[16] 10-2024-0097081 (국내 출원) / 이동도 개선을 위한 산화물 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 / 국내 / 최성환, 김채연 / 한국생산기술연구원 /  2024-07-23 (출원일자).        →  '25.5.12일 기준 OA 대응 중, 한국생산기술연구원에서 출원중인 건에 대해서 대응 종료 의사 전달

[15] 10-2024-0097080 (국내 출원) / 강유전성 전계효과 반도체 메모리 소자 / 국내 / 최성환, 이혜인 / 한국생산기술연구원 /  2024-07-23 (출원일자).

[14] 10-2023-0155392 (국내 출원) / 금속산화물 양자점 포토 트랜지스터 및 그 제조방법 / 국내 / 최성환, 김상형 / 한국생산기술연구원 /  2023-11-10 (출원일자).

       →  '25.5.12일 기준 OA 대응 중, 한국생산기술연구원에서 출원중인 건에 대해서 대응 종료 의사 전달

[12] (공개 상태) 10-2023-0102682 (국내 출원) /  피라미드-스폰지 구조의 유전체 필름 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 피라미드-스폰지 구조의 유전체 필름 및 이를 포함하는 높은 감도와 넓은 감지 범위를 갖는 정전용량식 압력 센서 / 국내 / 최성환, 주영진 / 한국생산기술연구원 /  2023-08-07 (출원일자).

[11] (공개 상태) 10-2023-0096743 (국내 출원) / 강유전막 메모리 소자 구조 / 국내 / 최성환, 이지수 / 한국생산기술연구원 / 2023-07-25 (출원일자).

2025

[31] 10-2793003 / 강유전체 전계 효과 트랜지스터 및 이를 제조하는 방법 / 국내 / 최성환, 이강민, 김예리 / 한국생산기술연구원 / 2025-04-03.

[30] 10-2779030 / 이동도 개선을 위한 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 / 국내 / 최성환, 김채연 / 한국생산기술연구원 /  2025-03-05.

[29] 10-2758960 / 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법 / 국내 / 최성환, 이강민 / 한국생산기술연구원 / 2025-01-20.

[28] 10-2752486 / 나노입자 기반 유연 전자피부(Nanoparticle-based flexible electronic skin) / 국내 / 최성환, 주영진 / 한국생산기술연구원 / 2025-01-06.

2024

[27] 10-2749532 / 이중 절연층을 포함하는 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 / 국내 / 최성환, 안인수 / 한국생산기술연구원 / 2024-12-27.

[26] 10-2732233 / 복수의 보호층을 포함하는 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 / 국내 / 최성환, 김상형 / 한국생산기술연구원 / 2024-11-15.

[25] 10-2690226 / 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법 / 국내 / 최성환, 이강민 / 한국생산기술연구원 / 2024-07-26.

[24] CN109087920B / TFT ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME / 국외 / Byoung Kwon Choo, Joon Hwa Bae, Hyun Jin Cho, Jun Hyuk Cheon, Zi Yeon Yoon, Sung Hwan Choi, Woo Jin Cho, Jeong Hye Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2024-04-16  [Link]

[23] EU EP3416192 B1 / TFT ARRAY SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE INCLUDING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME / 국외 / Byoung Kwon Choo, Joon Hwa Bae, Hyun Jin Cho, Jun Hyuk Cheon, Zi Yeon Yoon, Sung Hwan Choi, Woo Jin Cho, Jeong Hye Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2024-04-10. [Link]

2023

[22] 10-2598993 / 불감층 효과가 개선된 강유전체 전계효과 트랜지스터 및 이의 제조방법 / 국내 / 최성환, 이강민 / 한국생산기술연구원 / 2023-11-01.

[21] 10-2518726 / 유기 발광 표시 장치 / 국내 / 최성환 / 삼성디스플레이 / 2023-04-03.

2022

[20] 10-2348744 / 생체신호 감지 시스템 / 국내 / 최성환 / 한국생산기술연구원 / 2022-01-04.

[19] 10-2420327 / 박막 트랜지스터 어레이 기판, 이를 구비한 표시 장치 및 이의 제조 방법 / 국내 / 추병권, 배준화, 조현진, 천준혁, 윤지연, 조우진, 최성환, 최정혜 / 삼성디스플레이 / 2022-07-08. [Link]

2021

[18] US 10998343 / TFT array substrate and display device including the same / 국외 / Byoung Kwon Choo, Joon Hwa Bae, Hyun Jin Cho, Jun Hyuk Cheon, Zi Yeon Yoon, Woo Jin Cho, Sung Hwan Choi, Jeong Hye Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2021-05-04. [Link]

2020

[17] 10-2193208 / 영아 질식 예방 장치 (Choking Prevent Device for Infant) / 국내 / 최성환, 강경태 / 한국생산기술연구원 / 2020-12-14.

[16] 10-2094841 / 표시 장치 및 이의 제조 방법(DISPLAY APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME) / 국내 / 최성환 / 삼성디스플레이 / 2020-03-24.

2019

[15] US 10475817 / TFT array substrate, display device including the same, and method of manufacturing the same / 국외 / Byoung Kwon Choo, Joon Hwa Bae, Hyun Jin Cho, Jun Hyuk Cheon, Zi Yeon Yoon, Woo Jin Cho, Sung Hwan Choi, Jeong Hye Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2019-11-12. [Link]

[14] US 10249236 / Organic light-emitting display apparatus including an auxiliary gate electrode / 국외 / Sung Hwan Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2019-04-02.

[13] 10-2025103 / 표시 장치 및 이의 제조 방법(DISPLAY APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME) / 국내 / 최성환 / 삼성디스플레이 / 2019-09-19.

2016

[12] US 9316879 / Display apparatus and method of manufacturing the same / 국외 /  Sung-Hwan Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2016-04-19.

2015

[11] US 9093410 / Display apparatus and method of manufacturing the same / 국외 / Sung-Hwan Choi / Samsung Display Co., Ltd. / 2015-07-28.

2014

[10] US 8647932 / MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR / 국외 / Sung-Hwan Choi/Min-Koo Han / SNU R&DB Foundation / 2014-02-11.

2013

[9] US 8460966 / Thin film transistor and method for fabricating thin film transistor / 국외 / Sung-Hwan Choi/Min-Koo Han / SNU R&DB Foundation / 2013-06-11.

[8] US 8344384 / Thin film transistor and manufacturing method thereof / 국외 / Sung-Hwan Choi/Min-Koo Han / SNU R&DB Foundation / 2013-01-01.

[7] 10-1318418 / 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법(Thin film transistor and the manufacturing method thereof) / 국내 / 최성환/한민구 / 서울대학교산학협력단 / 2013-10-08.

[6] 10-1254910 / 박막 트랜지스터(Thin film transistor) / 국내 / 최성환/한민구 / 서울대학교산학협력단 / 2013-04-09.

2012

[5] 10-1128100 / 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법(Thin Film Transistor And Fabricating Method Thereof) /국내 / 한민구/최성환 / 서울대학교산학협력단 / 2012-03-12.

[4] 10-1125904 / 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터의 제조 방법(THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD FOR FABRICATING THIN FILM TRANSISTOR) / 국내 / 최성환/한민구 / 서울대학교산학협력단 / 2012-03-05.

2011

[3] 10-1035661 / 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 이에 의한 박막 트랜지스터(METHOD FOR FABRICATING THIN FILM TRANSISTOR AND THIN FILM TRANSISTOR BY THEREOF) / 국내 / 한민구/최성환 / 서울대학교산학협력단 / 2011-05-12.

[2] 10-1035660 / 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법(THIN FILM TRANSISTOR AND FABRICATION METHOD THEREOF) / 국내 / 한민구/최성환 / 서울대학교산학협력단 / 2011-05-12.

[1] 10-1035662 / 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor) / 국내 / 최성환/한민구 / 서울대학교산학협력단/ 2011-05-12.

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