Lab News & Notice

한국반도체학술대회(KCS 2025) 발표 수행 (2025.02.12~14)

2025년 02월 12일~14일동안 강원도 하이원리조트에서 제32회 한국반도체학술대회가 개최되었습니다.

김우희 교수님께서는 Thin Film Proces Technology 분과/Atomic Layer Deposition-1 세션에서 좌장 역할을 수행해주셨고,

석박통합과정 김혜경 학생은 Oral 발표를, 이정민 박사와 석박통합과정 권용주 학생은 Poster 발표를 진행하였습니다.

발표 제목은 아래와 같습니다.

김혜경: "Catalyst-Assisted Low-Temperature Atomic Layer Deposition of SiO2 Films and Enhanced Film Quality via In-situ Ozone Treatment"

이정민: "Area-Selective Atomic Layer Deposition of SiO2 Thin Films to Confer Oxide versus Metal Selectivity"

권용주: "ALD MoOx using Novel precursor & Mechanisms of initial tetragonal ZrO2 deposition at interfaces through MoO2/MoO3 phase control"