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한국반도체학술대회(KCS 2022) 발표 수행 (2022.01.25)

2022년 01월 24일~26일동안 강원도 하이원리조트에서 제29회 한국반도체학술대회가 개최되었습니다.

김우희 교수님께서는 D. Thin Films Process Technology 분과의 Area-selective Growth 세션에서 좌장 역할을 수행해주셨고, 박사과정 이진선, 이정민, 이정빈 학생은 Oral 발표를, 석박통합과정 이서현, 학부연구생 오지은 학생은 Poster 발표를 진행하였습니다.

발표 제목은 아래와 같습니다.

이진선: "Area‐Selective Atomic Layer Deposition of SiO2 Thin Films to Confer Oxide Versus Nitride Selectivity"

이정민: "Inhibitor-Free Area-Selective Atomic Layer Deposition of SiO2 through Chemoselective Adsorption of an Aminodisilane Precursor on Oxide versus Nitride Substrates"

이정빈: "Substrate-dependent Selective Atomic Layer Etching of Metal Oxides"

이서현: "Area-Selective Atomic Layer Deposition of Ru Thin Films Using Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers with Different Alkyl Chain Lengths"

오지은: "Area-Selective Atomic Layer Deposition of Ruthenium Thin Films Using Vapor-Phase Amino Group-Containing Inhibitors"