Tham gia hội thảo khoa học quốc tế về công nghệ Quantum, Nano and Micro, tại Italia

Post date: Oct 12, 2012 4:54:29 AM

Ảnh: GS Lee đang làm thủ tục đăng ký tại Hội thảo.

Tham gia vào tháng 8/2012. Giới thiệu khả năng chế tạo lớp mạ nickel có độ hạt nanometer bằng công nghệ mạ sau siêu tới hạn CO2 (post Sc-CO2). Phát minh công nghệ, đánh giá được khả năng chế tạo lớp mạ nickel bằng công nghệ sau siêu tới hạn CO2 có độ hạt nhỏ đến 30nm, độ cứng đạt trên 600Hv. Phân tích, chứng minh được những yếu tố ảnh hưởng tạo nên kết quả thực nghiệm.