Patent
[P7] 다중 프로토타입 대조학습 기반 분포 외 데이터 검출 방법 및 시스템
(Multi-Prototype Contrastive Learning with Hard Negatives for Out-of-Distribution (OOD) Detection)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2025-0053619 (2025-04-24)
[P6] 이상치를 이용한 자기지도학습 기반 이상 감지 방법 및 시스템 (GAN-BASED AUTOENCODER ANOMALY DETECTION METHOD AND SYSTEM USING OUTLIERS)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2024-0166035 (2024-11-20)
[P5] 라벨 노이즈에 강건한 자동 라벨링 방법 및 시스템 (Robust Auto-Labeling Framework with Noisy Labels)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2024-0154387 (2024-11-04)
[P4] 딥러닝을 이용한 2단계 반도체 공정 설비 이상 감지 방법 및 시스템
(Two Stage Anomaly Detection Framework for Semiconductor Manufacturing using Deep Learning)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2024-0101414 (2024-07-31)
[P3] 반도체 설비 센서 데이터를 입력으로 하여 DNN으로 자동 라벨링하는 방법 및 시스템
(Method and System for Deep Learning-based Auto Labeling using Semiconductor FDC Sensor Data)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2022-0104160 (2022-08-19) ==> 국내 등록번호 및 등록일: 10-2831955 (2025-07-04)
[P2] 이미지 분석 방법 및 이를 수행하는 이미지 분석 장치 (METHOD AND APPARATUS WITH IMAGE ANALYSIS)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2021-0095455 (2021-07-21)
미국 출원번호 및 출원일: 17/574,959 (2022-01-13) ==> 미국 등록번호 및 등록일: 12,211,193 (2025-01-28)
[P1] 공정 이상 예측 방법 및 장치 (METHOD AND DEVICE FOR PREDICTING PROCESS ANOMALIES)
국내 출원번호 및 출원일: 10-2021-0109436 (2021-08-19)
미국출원번호 및 출원일: 17/690,310 (2023-02-23)
Software
[S2] AI 기반 반도체 공정 이상 감지 프로그램
등록번호 및 등록일: C-2024-019073 (2024-06-03)
[S1] CNN기반의 발성 장애 분류 기법
등록번호 및 등록일: C-2023-000507 (2023-01-03)