本實驗室設備磁場產生設備包含磁場產生器本體(電磁鐵一組)、
水冷設備以及可程式電源供應器與 Function Generator,
用以長時間產生穩定的超大DC磁場(可至1.8T)與動態AC磁場。
本實驗室之探針平台(Probe Statioin)搭配探針平台及顯微鏡、示波器、
電荷放大器以及電源供應器,用以觀察奈米元件之性能。
本實驗室有兩座專用製程設備,分別為磁性薄膜之電鍍製程
設備及壓電膜之旋鍍製程設備所專用之排氣櫃。
本實驗室之壓電薄膜Sol-Gel旋鍍製程備包含旋轉塗佈機、高溫退火爐
及兩台加熱板,用以製造高潔淨度之PZT與PVDF壓電薄膜。
本實驗室之磁性薄膜電鍍製程設備,包含電鍍槽,電源供應器、
加熱攪拌器以及溫度保護裝置,用以供為奈尺度之磁性薄膜/結構之電鍍。