研究室内設備

プロセス装置

• µCLBS半導体レーザーアニール装置1号機(405nm)　兼微細加工機(コンタクト形成)

• µCLBS半導体レーザーアニール装置2号機(380nm/405nm/450nm/530nm可選択)

• スパッタ1号機(酸化金属膜専用, 3堆積室, pulse DC/DC, Ar/O2/N2)

• スパッタ2号機(金属膜/n+膜/p∔膜用, 6堆積室, DC, Ar)

• スパッタ3号機(絶縁膜専用, 1堆積室, pulse DC, Ar)

• スパッタ4号機(Si/Ge光吸収膜専用, 2堆積室, DC)

• 熱蒸着機

• プラズマエッチャー

• 高濃度オゾン水基板洗浄装置

• 超純水製造装置

物性・電気特性評価装置

• 過剰キャリアライフタイム測定装置(Sinton QSSPC)

• CV測定装置(HP4284)

• パラメータアナライザー(E5270B)

• ソーラーシミュレーター 

• IQE/EQE (Oriel IQE200)

実験室見学

成膜室

真空蒸着

単結晶Si-TFTの特性測定