"Rational design of functional surfaces and interfaces"

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Projects (ongoing) 

Fundamental surface chemical phenomena related to atomic layer deposition (ALD) 

• 2023 – 2026, 우수신진, 연구재단 (PI) 

HfO2 박막 원자층 공정의 원리기반 설계방법론 개발 (Development of design method for HfO2 thin film atomic layer processes based on principles) 

• 2023 – 2027, 민관공동투자반도체고급인력양성, 반도체연구조합 / 산업기술평가관리원 (co-PI, UNIST, 인천대학교) 

고온 원자층 증착법을 이용한 고성능 Ru-TiN 및 신 배선물질 연구 (High performance Ru-TiN interconnects via high temperature atomic layer deposition (ALD) and development on new interconnect materials based on ALD) 

• 2024 – 2027, 산학연구, SK hynix (co-PI, 성균관대학교, 한양대학교, 고려대학교) 

제일원리 시뮬레이션 기반 EUV lithography 향 MOR PR의 구조-반응성-광특성 관계 규명 연구 (First-principles simulation study on the structure-reactivity-optical properties relationship of MOR PR for EUV lithography) 

Area-selective atomic layer deposition (AS-ALD) 

• 2023 – 2025, 산학연구, 삼성전자 (종합기술원) (PI) 

선택적 원자층 증착법의 제1원리기반 전산모사 연구 (First-principles simulation study on area-selective atomic layer deposition)

• 2021 – 2024, 소재부품기술개발사업, 산업기술평가관리원 (co-PI, Soulbrain Co.) 

차세대 상용 메모리용 신규 ALD Precursor 개발 (Development of novel ALD precursor for next generation flash memory)

ALD of multicomponent materials 

• 2021 – 2026, 나노 및 소재기술개발사업, 연구재단 (participant) 

스마트 IT 소재의 컴퓨터 활용 공정설계 연구단 (Research Center for Computer-Aided Process-Design (CAPD) of Materials for Information Technology Applications) 

Chemistry of atomic layer etching (ALE) 

• 2023 – 2026, 산학연구, 삼성전자 (산학협력센터) (PI) 

금속 원자층식각 공정의 표면화학 반응기작에 대한 제일원리 전산모사 (First-principles simulation study on surface chemical reaction mechanisms in atomic layer etching processes of metals) 

HRD Programs

• 2020 – 2025, 산업혁신인재성장지원, 산업기술진흥원 (participant) 

차세대전력반도체 소자제조 전문인력양성 (Next Generation Power Semiconductor Device and Manufacturing Recruits) 

supported by: 

Projects (completed) 

• 2023 – 2024, 산학연구, 유피케미칼 (PI) 

Simulation Method를 통한 Precursor 증착 및 표면 반응에 관한 ALD 메커니즘 규명 (Identification of ALD mechanism related to precursor deposition and surface reaction through simulation method) 

• 2023 – 2023, 산학연구, 삼성전자 (반도체연구소) (PI) 

질화물 기판상 영역-선택적 원자층증착 (AS-ALD) 공정의 제일원리적 개발 (First-principles simulation study on AS-ALD process on nitride substrates) 

• 2022 – 2023, 산학연구, SK하이닉스 (PI) 

TCAD 미래기술 Pathfinding Research (Pathfinding research for TCAD future technology) 

• 2021 – 2022, 산학연구, SEMES (co-PI, 한양대학교) 

산화물 박막의 원자층식각 반응성 평가 (Reactivity evaluation and analytical model construction for atomic layer etching (ALE) of oxide thin films) 

• 2020 – 2022, 미래반도체소자 원천기술개발, 반도체연구조합 / 산업기술평가관리원 (co-PI, 인천대학교) 

분자단위 표면반응 메커니즘 이해를 통한 원자층 모듈레이션 기술 개발 (Development of atomic layer modulation technique based on molecular level understanding of surface reaction mechanism) 

• 2020 – 2022, 산학연구, SK하이닉스 (co-PI, 한양대학교) 

차세대 메모리 향 Multi Selective Oxide Deposition Process 개발 (Development of Multi Selective Oxide Deposition Process toward Next Generation Memory) 

• 2020 – 2021, 산학연구, SK머티리얼즈 (PI) 

화학적 시뮬레이션을 통한 원자층증착용 전구체 구조 설계 (Structural design of atomic layer deposition precursors based on chemical simulations) 

• 2019 – 2022, 미래기술육성사업, 삼성전자 (co-PI, 햔양대학교, 아주대학교, 한국기초과학지원연구원) 

비 단결정 이종접합 기반 저차원 전자 기체 소자 구현 및 응용 (Realization and application of low-dimensional electron gas devices based on non-single-crystalline heterojunctions) 

• 2019 – 2022, 기본연구, 연구재단 (PI) 

in situ 표면화학 분석을 통한 2차원 기판상 산화물 원자층증착의 개선 (Improvement of oxide atomic layer deposition on two-dimensional substrate through in situ surface chemistry analysis) 

• 2019 – 2021, 미래반도체소자 원천기술개발, 반도체연구조합 / 산업기술평가관리원 (co-PI, 한양대학교) 

높은 영역 선택비를 갖는 선택적 원자층 패터닝 기술 개발 (Development of selective advanced-atomic layer pattering (ALP) technique with high areal selectivity) 

• 2019 – 2021, 국제협력연구, 연구재단 (co-PI, Huazhong University of Science and Technology) 

원자층 증착을 이용한 나노촉매의 선택적 설계 (Selective design of nanocatalysts by atomic layer deposition)

• 2018 – 2020, 산학연구, SK하이닉스 (PI) 

프리커서 구조 및 반응 시뮬레이션을 통한 원자층 기상 증착 메커니즘 해석 및 프리커서 최적화 (Mechanistic analysis and precursor optimization of gas phase atomic layer deposition via simulations of structure and reaction of precursors) 

• 2018 – 2019, 사이언스펠로십, 포스코청암재단 (PI) 

반응조건하 표면화학 현상의 in situ 분석 (in situ analysis of surface chemical phenomena under reaction conditions) 

• 2017 – 2021, 미래반도체소자 원천기술개발, 반도체연구조합 / 산업기술평가관리원 (co-PI, 한양대학교, 세종대학교) 

3nm급 이하 패터닝을 위한 자기제어 유기박막 소재 및 선택적 금속 증착 기술 개발 (Development of self-limited low molecular polymer layer and area-selective metal deposition for sub-3nm patterning) 

• 2016 – 2019, 신진연구, 연구재단 (PI) 

전기화학적 적외선 분광법을 이용한 에너지 변환 소자용 전극 표면의 in situ 연구 (in situ study of electrode surfaces for energy transformation devices with electrochemical infrared spectroscopy) 

• 2016 – 2023, 초고성능컴퓨팅 기반 R&D 혁신지원, 과학기술정보연구원 (PI) 

(supercomputing CPU hours)