プログラム

（以下敬称略）

10:10 開催の辞

10:20～11:10　横浜国立大学　大山 俊幸

「現像時の高分子反応を利用したエンプラ等の微細パターン形成」（仮題）

11:10～12:00　群馬大学　米山 賢

「硫黄を一成分とする重合方法の開発」

12:00～12:50　昼休憩

12:50～13:30　企業紹介プレビュー （各約3分）

13:30～15:00　ポスター発表　（A：45分、B：45分）

15:10～16:00　岡山大学　内田 哲也

「溶液結晶化を利用した高耐熱性、高熱伝導性ポリイミドナノファイバー

　および剛直高分子ナノファイバーの作製と複合体への応用」

16:00～16:50　NOK（株）　大庭 久恵

「フレキシブルプリント配線版の技術動向」

16:50～17:00　学生ポスター賞表彰式

17:00 閉会の辞

17:20　懇親会（学生食堂ホール）