As Dr Angelo Mascarenhas (former group manager of Materials Physics Group in NREL) said, our aim is to explore new materials and demonstrate device operation, then walk away. Using two physical vapor deposition (PVD) techniques such as sputtering deposition and molecular beam epitaxy (MBE), we explore new materials and nanostructures which can enhance the performance of well-known device properties or open a door to new device applications.

미국 NREL의 Materials Physics Group의 이전 그룹 매니저였던 Angelo Mascarenhas 박사님이 말씀하셨던 것과 같이, 우리의 목표는 새로운 반도체 소재를 발견하고 이의 소자로서 가능성을 보여주는 것을 그 목표로 합니다. 이를 위해서 sputtering deposition과 MBE와 같은 PVD 증착 방법을 도구로서 활용, 기존 반도체 소자의 동작 특성 향상 뿐만 아니라 새로운 기능성 반도체 소자의 가능성을 보여주는 새로운 소재 및 나노구조를 탐구합니다.

Classical epitaxy growth techniques such as metal-organic chemical-vapor deposition (MOCVD) and molecular beam epitaxy (MBE) necessarily require huge budget due to its methodological nature. The high fabrication cost is one of the bottle neck of the use of emerging epitaxial materials around us. In this term, we explore alternative and cheap routes other than the conventional bottom-up methods to grow the new epitaxial materials.

기존의 MOCVD 및 MBE를 이용한 epitaxy 성장 기법은 기본적으로 장비 구축 및 유지 보수, 운용에 상당한 비용을 필요로 하며, 새로운 소재를 이용한 반도체 소자 구현 시 제작 단가 상승을 야기합니다. 이에 우리는 기존의 epitaxy 성장 기법 외에도 제작 단가를 줄일 수 있는 성장 기법에 대한 연구를 또 다른 연구 목표로 두고 있습니다.

Beside exploring emerging materials, it is necessary to probe the materials to see the physics behind them. By shining light on the characteristics and mechanism how the materials functionalize, we can provide feedback to tailor the materials properties as well as strategies in realization of the materials in device applications. We strategically probe the materials with various spectroscopic methods. 

새로운 반도체 소재의 탐구 외에도, 이들이 어떻게 해서 새로운 소재로서 그 가능성을 지닐 수 있는지 확인이 필요합니다. 이에 다양한 분광학 분석을 기본으로 다양한 측정 및 분석 기법들을 활용하여 새로운 반도체 소재의 특성을 파악하고 어떤 식으로 개선할 수 있을지 피드백을 제공하는 것 역시 또 다른 연구 목표로 하고 있습니다.