黃光室 抽氣櫃
黃光室 Claen Water
黃光室 光祖塗佈機
黃光室Alpha-Step厚度量測器
黃光室 電磁攪拌器
黃光室 化學溼式蝕刻系統
黃光室 超音波洗淨器
黃光室 光學顯微鏡
SEM 掃描式電子顯微鏡
電子 離子蝕刻系統
電子束薄膜蒸鍍系統
熱退火系統
變溫電性量測系統
室溫電性量測系統
weir bonder 打線機
電極蒸鍍機
氣體吸附性質量測系統
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工作臺
物理性質量測系統 PPMS
物理性質量測系統 (Physical Property Measurement System, PPMS) 是近年來受到來自世界各地的材料、物理等領域科學家們注目的新型綜合物理性質測量儀器。一個 PPMS 系統由一個主機和各種應用測量的模組化元件構成。主機提供了一個強磁場(超導磁體)和極低溫的環境(液氦溫度範圍),使用者可以根據自己的研究需要利用測量各種物理性質。此外系統的可擴充性甚至可以讓使用者將自己的個人實驗裝置與 PPMS 系統結合起來進行多種參數測量。
儀器說明
a. 性能說明:可量測低溫 (2K) 高磁場 (9T) 下的直流、交流電性以及霍爾效應等物理性質。
b. 型號:Quantum Design - 9T
c. 主要規格:
(1) 溫度範圍:2~400 K
(2) 磁場範圍:-9 ~ +9 Tesla
(3) 磁場下轉動角度:380 度
(4) 量測物理性質:直流/交流電傳導、霍爾效應、磁阻等
儀器說明
a. 性能說明:可量測低溫 (4K) 低磁場 (0.9T) 下的直流電性以及霍爾效應等物理性質。
b. 主要規格:
(1) 溫度範圍:4~400 K
(2) 磁場範圍:-0.9 ~ +0.9 Tesla
(3) 量測物理性質:直流電傳導、霍爾效應、磁阻等
儀器說明
a. 性能說明:
利用 185 nm 紫外線產生 O3 並與 NO 結合形成 NO2 ,能夠提供固定濃度之 O3、NO 與 NO2 氣流 。
b. 主要規格:
(1) 濃度範圍:5~500 ppb
(2) 精確度: 通過濃度的 2%
c. 示意圖 ( 資料來源: https://twobtech.com/model-714-no2noo3-calibration-source.html )
a.型號: FEI Quanta 3D FEG
b.規格:
(1)加速電壓為 0.2 ~ 30 KV
(2)解析度可達 1.2 nm at 30 Kv
(3)聚焦離子束使用Ga液體金屬離子源,加速電壓為 2~30 KV,離子束電流2 pA ~ 65 nA,解析可達5 nm,目前僅提供Pt沉積。
(4)放大倍率:×25 to ×200,000
(5)影像輸出:燒錄數位影像紀錄
(6)能量分散光譜儀 ( EDS ):元素偵測範圍:B~U ( 原子序5~92 ),解析度:127 eV