原子力顯微鏡 (AFM) 是一種具備奈米級高解析度的掃描探針顯微鏡。它透過極細微的探針與樣品表面間的原子作用力來感測地形起伏。相較於傳統光學顯微鏡，AFM 不受光學繞射極限影響，能觀測三維表面的微觀結構。 

在鍍銀 Ag 、Au製程中表現優異。其原理是透過高電流加熱鎢舟，使銀材料在極高真空下昇華，並均勻沉積於基板表面。由於銀具備極高的反射率與導電性，此設備常用於製作高規格的光學反射鏡面或精密電子元件的導電電極，確保膜層純淨且附著力佳。 

由日本昭和生產的電子束蒸鍍機。

該設備主要利用高能電子束加熱材料，使其在真空環境下蒸發並沉積於基板表面。它是製造高精度薄膜沉積的核心設備，能精準控制薄膜厚度，實現優異的抗反射與濾光功能。

S-3000H 具備更大的樣品室空間與更優異的解析表現。它利用電子束掃描樣品表面，能捕捉極其細微的形貌與結構特徵。對於您進行的銀、金薄膜蒸鍍，S-3000H 不僅能以高倍率觀察膜層的結晶均勻度，其強大的景深優勢更適合檢查鍍膜在複雜基板上的覆蓋情況。若配備 EDS 分析儀，還能同步確認金屬成分的純度與分佈。