Laboratory Introduction 

LAB425 主要聚焦於半導體微奈米製程、奈米光電結構與元件模擬分析，從元件設計、數值模擬到實際製程與量測，建立完整的微奈米元件開發流程。

研究工作涵蓋 Electron Beam Lithography（EBL）電子束微影、Thermal / E-beam Evaporation 薄膜沉積、Ag 與 SiO₂ 奈米薄膜製備，以及 SEM／AFM 奈米尺度結構量測。透過微影與薄膜製程控制奈米結構之線寬、週期、厚度與幾何形貌，並針對製程參數進行校正與最佳化。

在元件設計方面，實驗室結合 3D FDTD 電磁模擬，分析奈米結構中的光場分布、共振行為與近場增益，並將模擬所得之最佳結構參數實際導入製程，再透過 SEM、AFM 等量測結果回饋至模擬模型，形成：

Device Design → Simulation → Lithography → Thin-Film Deposition → Process Optimization   的完整研究流程。

目前研究亦延伸至矽光子與積體光學元件，包含 Optical Waveguide、Grating Coupler、Microring Resonator 與光學濾波結構設計，將半導體微奈米製程技術與光電元件設計整合。