研究グループに興味がある学生へ
“モノづくりの最先端に挑む。” そんな熱意を持つあなたを、私たちは歓迎します。
当研究室では、真空装置を用いた薄膜合成技術や、誘電材料を中心としたエレクトロニクス材料の開発に取り組んでいます。これらは、半導体をはじめとするエレクトロニクス産業の基盤を支える、非常に重要な技術領域です。
もしあなたが、
真空蒸着技術に興味がある
誘電体の応用に魅力を感じる
最先端の研究に挑戦したい
そんな思いを持っているなら、ぜひ私たちの研究グループで一緒に研究してみませんか?自由な発想でじっくりと研究に打ち込める環境を整えて、皆さんの挑戦をお待ちしています。
受験方法: 北海道大学 情報科学院の大学院入試をご受験ください。過去問などの詳細は、学科の公式サイトをご参照ください。https://www.ist.hokudai.ac.jp/
研究室の見学や相談をご希望の方は、お気軽に電子メールなどでご連絡ください。研究内容や雰囲気など、じっくりご紹介いたします。あなたの第一歩を、私たちが全力でサポートします。
Message for students interested in Our Group
"Challenge the forefront of materials innovation." If you are driven by such passion, we warmly welcome you.
Our laboratory focuses on thin film synthesis using vacuum-based techniques and the development of electronic materials centered on dielectrics. These are essential technological areas that support the foundation of the electronics industry, including semiconductors.
If you are:
Interested in vacuum deposition technologies
Fascinated by dielectric materials and their applications
Eager to take on cutting-edge research
Then why not join us and explore these challenges together?
We offer a research environment that encourages creative thinking and deep, focused exploration, allowing you to pursue your ideas freely. We look forward to working with motivated individuals who are ready to take on new scientific frontiers.
Application Process:
Please apply through Information Science and Technology at Hokkaido University, Japan.
For past entrance exam questions and additional information, please refer to the official website:
https://www.ist.hokudai.ac.jp/eng/
If you are interested in visiting our lab or would like to discuss potential research opportunities, feel free to contact us by email.
共同研究をご検討中の研究者の皆様へ
当研究室は、酸化物薄膜の多岐にわたる研究を通して、学術的・技術的貢献を目指しています。この分野の深い知見探求と新機能材料創出には、分野を超えた連携が不可欠です。
皆様との共同研究は、それぞれの専門性を融合し、質の高い研究成果を生み出す貴重な機会です。私たちの独自の薄膜作製技術、高度な評価解析手法、基礎物性に関する知見が、貴研究室の専門性と結びつくことで、これまでにない学術的発見やブレークスルーが期待できると確信しています。
共同研究を通じて、共に科学的探求のフロンティアを拡げ、未来のエレクトロニクス分野の発展に寄与できることを願っております。
ご関心をお寄せいただけましたら、どうぞお気軽にご連絡ください。