試料作製 / Sample Preparation
酸化物薄膜製膜 / Oxide thin film deposition
パルスレーザー堆積(PLD)装置 2台 / Pulsed laser deposition (PLD), 2 units
金属電極製膜 / Metal electrode film deposition
室温簡易スパッタ装置 / Simple sputtering
酸フッ化物膜合成 / Oxyfluoride thin film synthesis
管状炉 3台 / Tube furnaces, 3 units
急速加熱装置 / Rapid thermal anneal
卓上型ランプ加熱装置 / Lamp heating furnace
PLD用ターゲット合成 / PLD target synthesis
ペレット成型用プレス器 、自動乳鉢、電気炉 / Pellet molding press, automatic mortar, electric furnace
特性評価 / Characterization
強誘電性・圧電性 / Ferroelectric and piezoelectric thin film
強誘電体テスター、レーザードップラー振動計、LCRメーター / Ferroelectric tester, Laser Doppler vibrometer, LCR meter
電気伝導性 / Electrical conduction
ホール効果測定 / Hall effect measurement
プローバー / Prober
室温~300℃ (磁場無し) or 室温 (磁場 < 20 kOe) / 25-300℃ (no magnetic field) or RT (H < 20 kOe)
低温磁場装置 / Low temperature magnetic field
4~300 K (磁場 < 5 kOe) / 4-300 K (H < 5 kOe)
光印加装置 / Laser system
1W レーザー(青、緑)、音響光学変調器(~MHz) / 1W laser (blue, green), acousto-optic modulator (~MHz)
結晶構造 / Crystal structure
X線回折装置(XRD, 太田研所有) / X-ray diffraction equipment (XRD, owned by Ohta Lab.)
薄膜表面 / Thin film surface
原子間力顕微鏡(AFM, 太田研所有)、走査型電子顕微鏡(SEM, 電子研共用) / AFM (owned by Ohta Lab.), SEM (common facilities)
組成評価 / Composition
エネルギー分散型X線分析(EDS, 電子研共用) / EDS (common facilities)