Equipment/研究設備

試料作製 / Sample Preparation

• •  酸化物薄膜製膜 / Oxide thin film deposition

パルスレーザー堆積(PLD)装置 ２台 / Pulsed laser deposition (PLD), 2 units

•  金属電極製膜 / Metal electrode film deposition

室温簡易スパッタ装置 / Simple sputtering

• 酸フッ化物膜合成 / Oxyfluoride thin film synthesis

管状炉 ３台 / Tube furnaces, 3 units 

• 急速加熱装置 / Rapid thermal anneal

卓上型ランプ加熱装置 / Lamp heating furnace

• PLD用ターゲット合成 / PLD target synthesis

ペレット成型用プレス器 、自動乳鉢、電気炉 / Pellet molding press, automatic mortar, electric furnace

特性評価 / Characterization

• 結晶構造 / Crystal structure

薄膜用X線回折装置(XRD)、触針式段差計 / X-ray diffraction equipment (XRD), Stylus Profiler

• 強誘電性・圧電性 / Ferroelectric and piezoelectric thin film

強誘電体テスター、レーザードップラー振動計、LCRメーター / Ferroelectric tester, Laser Doppler vibrometer, LCR meter

• 電気伝導性 / Electrical conduction

ホール効果測定 / Hall effect measurement

• プローバー / Prober

室温～300℃ (磁場無し) or 室温 (磁場 < 20 kOe)  / 25－300℃ (no magnetic field) or RT (H < 20 kOe) 

• 低温磁場装置 / Low temperature magnetic field

4～300 K (磁場 < 5 kOe) / 4－300 K (H < 5 kOe)

• 光印加装置 / Laser system

1W レーザー(青、緑)、音響光学変調器(~MHz) / 1W laser (blue, green), acousto-optic modulator (~MHz)