Remote plasma-based atomic layer deposition system
리모트 플라즈마를 이용한 원자층 증착 시스템
안지환, 유진근, 오성국, 김형준, 신정우, Byung Chan Yang, 고도현
Korea / 10-2074346 / registration of a patent
Deposition Device Depositing Atomic Layer
원자층을 증착하는 증착 장치
안지환, 이성제, 계승현, 심상일, 조소라, Byung Chan Yang, 고도현
Korea / 10-2018-0057550 / application for a patent
Anode for Fuel cell
연료 전지에 이용되는 연료극
안지환, 김형준, 길민종, Byung Chan Yang, 고도현
Korea / 10-2021-0134481 / application for a patent
METHOD FOR FORMING THIN FILM ON CUTTING TOOL USING PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION
플라즈마 원자층 증착법을 이용하여 절삭 공구에 박막을 형성하는 방법
안지환, 심동하, 신정우, 이재형, 고도현, Byung Chan Yang
Korea / 10-2022-0043281 / application for a patent
Catalytic Converter for Toxic Gas Processing
유해가스 촉매변환기
안지환, 길민종, 박희성, 김형준, Byung Chan Yang, 신정우, 이성제, 이제민, 김예슬, 박문수, 선호중
Korea / 10-2286494 / registration of a patent