バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター（BNERC）は、最先端のナノスケール表面分析装置「Hard X-ray Photoelectron Spectroscopic (HAXPES) System（Ulvac-Phi Inc.）」を導入しました。さらに定量的な表面分析が可能となり、国内外から注目されています。BNERCと学際・癒合科学研究科は、装置特性・性能をさらに詳細に理解し、バイオ・ナノサイエンスの進展に寄与するべく、7月20日に「産学連携国際ワークショップ」を開催しました。

BNERC、IdNS、Ulvac-Phi Inc., Japan、Physical Electronics, USA、Laboratoire d’Électronique des Technologies de L’Information (Leti), France、Wako Pure Chemical Industries Ltd., Japanからの参加者がバイオ・ナノサイエンス、ナノ表面科学、ナノエレクトロニクス等について発表・パネルディスカッションを行いました。

最後に、参加者がHAXPESを実際に操作し、そのパーフォーマンスについて議論しました。

ワークショップの次第

12:30   親睦
13:30   バイオ・ナノサイエンスについて
                前川　透（センター長, BNERC）
14:00   基板上のナノ粒子分析
                林浩平（和光純薬工業株式会社）
14:10   カーボンナノ材料の合成・分析
                内田貴司（BNERC）
14:30   BNERCの施設・機器およびナノ／マイクロ デヴァイスの表面分析
                花尻達郎（副センター長, BNERC）
15:00   休憩
15:30   Letiにおける研究紹介
                Olivier Renaut（Research Scientist, Laboratoire d’Électronique des
                Technologies de L’Information (Leti), France）
16:00   施設見学
16:30   パネル・ディスカッション
                前川透, 花尻達郎, 中島義賢, 水木徹, 内田貴司, 下重裕一（BNERC）
                林浩平（和光純薬工業株式会社）
                漆原宣昭, 井上りさよ、渡邊勝巳（アルバック・ファイ株式会社）
                Jennifer E. Mann, John G. Newman（Physical Electronics, Ulvac-Phi Inc., USA）
                Olivier Renaut（Leti, France）
17:00   まとめ

ワークショップの主催・共催機関

バイオ．ナノエレクトロニクス研究センター
大学院学際・融合科学研究科
アルバック・ファイ株式会社
Laboratoire d’Électronique des Technologies de L’Information, France
Physical Electronics, Ulvac-Phi Inc., USA
和光純薬工業株式会社