Deposição de Filmes Finos

A deposição de filmes finos é uma ferramenta essencial no domínio das nano-tecnologias como, por exemplo, nas áreas de microeletrônica (portão dielétricos, dispositivos de memória) ou energia (camada células solares, materiais termo-elétricos). A produção e deposição de filmes finos a vácuo é importante para a elaboração de produtos avançados, tais como monitores planos (OLED, LCD, plasma) e na gravação de dados (HD, CD, DVD).

Em agosto de 2011, uma máquina de Sistema de Deposição de Filmes Finos HHV AUTO500, da Edwards, foi adquirida com verda do projeto CT-Infra, no valor de U$160.000,00, para o laboratório de deposição sob minha supervisão. Este equipamento permite a utilização de técnicas de última geração, como evaporações por feixe de elétrons, o ion plating e a pulverização catódica (sputtering) por magnetron [Fig. 5] em estudos aplicando métodos de deposição de filmes finos a vácuo (caracterizado como PVD - Physical Vapour Deposition). Permite, ainda, aplicar o método de deposição química a vapor (CVD - Chemical Vapour Deposition), que constitui um processo versátil para construção de filmes sólidos, revestimentos, fibras, componentes monolíticos, entre outros materiais.