WEC Gem Professor Micro Raman Spectroscopy

532nm (綠光) 顯微拉曼光譜系統

Laser  Type: 532nm (Green color) DPSS Laser, 100mW max

Detector Pixel Resolution: ~±2 pixel

Effective coverage: 0-4650 cm-1 

Optical Resolution:  ~5um2  (in focus) @ 50X OBJ Lens

Exposure time maximum limit: 65 sec. per data

Out put file format: *.txt available

Malvern Mastersizer 2000 Laser Particle Size and Shape Analyzer with Hydro 2000S Small volume automated wet dispersion accessory

本粒徑分析系統使用He-Ne雷射與藍光雷射光源，搭配濕式進樣系統，使用逆滲透水作為樣本載體，有效粒徑偵測範圍達: 0.02~2000 μm。並可自訂標準作業程序(SOP)，精確量測樣品粒徑。

Bruker Tracer  (XRF Analyzer) 

X射線螢光光譜儀 (X-ray Fluorescence Spectrometer) 又稱為XRF光譜儀。X光螢光光譜分析是一種快速、非破壞性的物質分析方法。本實驗室XRF光譜儀為手持型，X光激發源為銠Rh靶，應用彈性高，在不同電壓與電流的設定下，可偵測原子序9~96，週期表中氟 (F) 至鈾 (U) 之間的元素，並有多種模式可應對各類材料的定性及半定量分析。針對岩石與礦物樣品中所含的元素種類可選用Bruker原廠所建立的Geomining或Geoexploration模式進行快速檢測，而合金或玻璃材料亦有Alloy及Glass模式可對應。另外本機型支援空氣模式 (air)、真空模式 (vacuum)、以及氦氣吹拂模式 (gas flush)條件下的分析，可依需求增加儀器對低原子序原素的敏感度並提升半定量的準確率，且對於特殊分析需求的實驗可與儀器操作人員討論客製化標準樣及SOP的條件。

Zeiss Axio scope. A1 Polarizing Microscope

本機具備5、10、20、50、100X-LD接物鏡頭，最大觀察倍率可達1000倍，具備可變角偏光片及旋轉載台，可用於觀察岩石薄片中的細部組織。另搭配外接式數位影像系統，最高圖像解析度可輸出6000*4000 pixel，附加的數位影像系統可與電腦進行連線，於螢幕上進行即時觀察、拍攝、測量或錄製影片。

Grinder/ Polisher

動力為1HP 交流馬達以3750rpm 定速運作，

具備常規1"孔徑的4"、6"、8"、12"、14"水磨鑽石鋸片

鋸片厚度規格介於0.3~1.5mm之間可供選擇，另有10吋#400 ~600 鑽石砂輪及拋光盤等多種選用配件。可用於岩石、玻璃、塑膠及部分金屬樣品的高效率切割或研磨。

(因載台設計限制，上機樣品尺寸建議大於5*5mm，小於14*14cm以內。)

CY-303 Dual Pad Polisher

本拋光機含自動供液系統，具備0~1000rpm可調節式轉速控制及可替換式電鍍鑽石磨盤及多樣的金屬檯金，可依使用需求更換或黏著不同粗細之鑽石鍍盤、碳化矽砂紙 #120~4000或拋光布搭配微米鑽石液等多種選擇，具有良好的樣品平面及弧面拋光處理能力。