Research

제작 장비 관련 정보입니다.

제조사 및 모델명 : MIDAS MASK ALIGNER / MDA - 400M


Optical Lithography시 UV exposure를 위한 장비입니다.

Optical microscope를 이용하여 layer의 align이 가능하며,

300 W의 UV를 이용하여 exposure 합니다.


현재 대부분의 기능을 수동으로 사용중이며,

최고 3 um의 resolution 구현이 가능합니다.