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Research
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제작 장비 관련 정보입니다.
제조사 및 모델명 : MIDAS MASK ALIGNER / MDA - 400M
Optical Lithography시 UV exposure를 위한 장비입니다.
Optical microscope를 이용하여 layer의 align이 가능하며,
300 W의 UV를 이용하여 exposure 합니다.
현재 대부분의 기능을 수동으로 사용중이며,
최고 3 um의 resolution 구현이 가능합니다.