Research

제작 장비 관련 정보입니다.

Furnace

furnace

사용온도 : 최대 1000도

사용용도 : 반도체 공정에서 Dry Oxidation, Doping시 사용하는 장비 입니다.

                air, 진공, O2, N2, Ar등의 가스를 사용합니다.