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Nano Gallery
Nano_SEM_07
FTC 1층 클린룸에 소재하는 E-beam Lithography 장비를 통해서 90nm Dot pattern을
구현하였지만 aspect ratio가 너무 높아 pattern이 쓰러져 있는 재미있는 사진입니다.
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FTC 1층 클린룸에 소재하는 E-beam Lithography 장비를 통해서 90nm Dot pattern을
구현하였지만 aspect ratio가 너무 높아 pattern이 쓰러져 있는 재미있는 사진입니다.