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세계최고성능 전자빔 나노리소 장비 도착! 10 nm 대 나노패턴을 자유롭게 구현할 수 있는 세계최고 성능의 100 kV E-Beam Lithography 장비 입고! Set-up을 거쳐 11월 중순부터 가동예정 

Oct 10, 2009

2009년 10월 8일, 100 kV Electron-Beam Lithography 장비가 드디어 FTC Clean Room 문앞에 도착했습니다!

왠 호들갑이냐 하겠지만, 이는 우리연구실의 오래된 "꿈"이었던 자체적인 나노리소 장비 확보가 이루어진 것입니다.

사실 그동안 우리 나노전자소자 연구실에 나노리소그라피 장비가 없어서 실질적인 나노소자재작을 위해서는 타기관의 장비들을 써야만 했습니다. 영국 Cambridge대학교, 고려대학교, 부산대학교 등 비행기타고, 기차타고, 지하철타고 다니며 눈치봐서 하던 실험을 이제는 엘레베이터만 타면 매일 원하는 시간에 위 대학교의 장비보다 월등하게 뛰어난 장비로 원없이 할 수 있게 되었습니다.  

아마 학생들도 향상되는 연구효율과 높아지는 집중도를 스스로 경험하며 연구의 즐거움을 느낄 수 있을 것입니다. 그동안 봉현이, 채현이를 비롯한 많은 선배학생들의 노력과 희생으로 우리 연구실의 연구기반들이 하나, 둘씩 다져져 왔습니다. 그럴때마다 한단계씩 연구효율이 높아졌고 2006년 FE-SEM 확보와 작년 FTC연구공간으로의 입주를 통하여 한공간에서 이루어지는 실험으로인한 연구집중력 향상효과도 경험했습니다.  

이제는 10nm대 나노패턴을 자유롭게 구현할 수 있는 세계최고 성능의 E-beam 장비가 들어옴으로 인하여 이미 구축된  sputter, etch, ALD, CVD, Ion miller, CMP, Annealler, Asher, FE-SEM, FIB등 나노전자소자 제작과 분석을 위한 모든 장비들을  학생들 손으로 직접 사용하며 공학적 상상력의 폭이 넓어지고, 창의적 Idea들이 마구 떠오르며, 연구에 대한 시급함을 드낄 정도로 흥미가 배가되는 것을 경험할 수 있을 것입니다.  앞으로 놀라운 일들이 일어날 것을 기대하며 아래 간락하게 장비와 그 성능을 소개합니다.