Sobre o equipamento

Equipamento de fabricação de filmes finos por sputtering em alto vácuo. Abaixo algumas informações sobre o equipamento

• Magnetômetros DC e RF 

• 5 alvos , em arranjo confocal , permitindo a codeposição de diferentes alvos.

  • Potência variando de 10W a 200W ( <100W , de preferência)

  • Metais, isolantes , configuraçao especial para materiais magnéticos.

• Diâmetro dos alvos  2 polegadas , espessura ( 2mm à 3mm).

• distância do alvo ao substrato: 75mm

• Temperatura amostra calibrado entre 600C -950C ( substrato transparente como safira Tmax=850C)

• Uniformidade de temperatura : +/- 4 graus nas 2 polegadas de diâmetro do substrato.

• Limpeza da superfície do filme ( RF da superficie)

• pode-se fazer depositos com atmosfera de Ni e de O2

• Parâmetros de depositos : pressão na câmara (5x10-8Torr à 100mTorr), fluxo , potência de depósito

Responsável técnico