International patents

1. Method of analysing images of rod-like particles

(US10269106B2)

2. Method and device for correcting image 

(US10853922B2)

3. 다형체 형성 비율 예측 장치 및 방법  관련 3극 특허 (일본, 유럽, 미국, 2025년 진행중)

Domestic patents

1. 엔트로피 기초 영상 분할 방법 (등록, 소멸)

2. 막대 입자 이미지의 영상 분석 방법 (등록)

3. 막대형 금속 입자로 구성된 네트워크 전극의 분석 방법, 이를 수행하기 위한 기록 매체 및 장치 (등록, 소멸)

4. 입자 배열 획득 방법 및 입자 배열 획득 장치 (등록)

5. 이미지 보정 방법 및 장치 (등록)

6. 막 결함 분석 방법 (등록) 

7. 미세구조의 분산도 분석 방법 (등록)

8.  미세구조의 분산도 분석 방법 (분할 출원, 등록)

9. 슬롯 코팅 방법 (등록)

10. 전도성 막대 네트워크의 전도성 해석 방법 (등록)

11.  석유의 개질 방법 및 슬러리 기포탑 반응기 (등록)

12. 입자 추적 장치 및 방법 (등록)

13.  흐름 분석 장치 및 방법 (등록)

14. 미세구조 분석 방법 (등록)

15. 입도 분포 추정 방법 (등록)

16. 수분 변동 흡착 기반 이산화탄소 포집 방법 (출원)

17. 다형체 형성 비율 예측 장치 및 방법 (출원)

18. 볼밀 단일 공정 기반 리튬 이차전지용 전극 슬러리의 제조방법  (출원)