次世代VUV光学素子とその評価法研究会

開催趣旨：

　紫外光（Ultraviolet）と硬Ｘ線(Hard X-ray, HX)の間の波長域は真空紫外光（Vacuum UltraViolet, VUV）と呼ばれてきた。近年ではこの波長域は用途に応じて細分化され、半導体露光に供されるようになった極端紫外光(Extreme UltraViolet, EUV)やBEUV 光(Beyond Extreme UltraViolet)、主に物質の電子状態計測に用いられるようになった軟Ⅹ線(Soft X-ray, SX)、さらにH, C, N, Oを除く生物主要元素（P, S, Cl, K, Ca, Fe）のK殻吸収端領域を対象とする短波長軟Ｘ線などに区分されている。光学的に見た場合、これらの領域で使われる光技術はほぼ共通であることから、ここではこれらの波長域をまとめて真空紫外光・VUVと呼ぶ。

　本年4月より運用開始された次世代放射光施設ナノテラスは、このVUV領域において、これまでの国内放射光施設により供給されてきた約100倍の光強度を持つ光を供給することができる。この我々が手にした新たな光源は我々の新たな武器である。本研究会において、この光源の性能を最大限に引き出すために、新たな光学的課題、次世代光学素子のアイディア、光学素子の評価法について検討および議論を行いたい。

世話人代表：　江島丈雄

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