一、主要研究方向

功能性陶瓷薄膜
替代材料之開發
透明薄膜元件
節能材料
新型觸媒

二、研究設備

1. 射頻磁控濺鍍儀

磁控濺鍍設備,可以通入氮氣、氬氣等反應氣體,以電漿離子撞擊靶材,使靶材原子沉積在基板上形成薄膜,本系統可以製作鋁、銅、鈦等各式金屬薄膜,以及氧化鈦等非金屬膜。

2. 氣氛控制管狀高溫爐

可以真空幫浦抽氣並以質流控制器精密控制氣氛

可通入氮氣、氬氣、氫氣進行退火溫度範圍:1200℃

3. 旋轉塗佈機

4. 無塵操作台

5. 多功能source meter安捷倫U2722A

6. 多功能數據擷取器 陶瓷電性量測

7. 螢光光譜儀

8. 色度儀

9. 氣相層析儀

10.TPR

11.冷凍乾燥機

12.直流高壓供應器

13.高速旋轉收集器

14.1200oC箱型高溫爐*2

15.16段程控烘箱

16.球磨機

17.油壓機

18.精密天平

19.3D列印機PRUSA i3

20. 常用分析設備(共用儀器)

X-射線繞射儀
場發掃描式電子顯微鏡
能量分散元素分析儀
感應偶電漿原子放射光譜儀
原子吸收光譜儀
傅力葉轉換紅外線光譜儀
穿透式電子顯微鏡
AC交流阻抗分析儀
UV-Vis光譜儀