•功能性陶瓷薄膜
•替代材料之開發
•透明薄膜元件
•節能材料
•新型觸媒
二、研究設備
1. 射頻磁控濺鍍儀
磁控濺鍍設備，可以通入氮氣、氬氣等反應氣體，以電漿離子撞擊靶材，使靶材原子沉積在基板上形成薄膜，本系統可以製作鋁、銅、鈦等各式金屬薄膜，以及氧化鈦等非金屬膜。
2. 氣氛控制管狀高溫爐
可以真空幫浦抽氣並以質流控制器精密控制氣氛
可通入氮氣、氬氣、氫氣進行退火溫度範圍：1200℃
3. 旋轉塗佈機
4. 無塵操作台
5. 多功能source meter安捷倫U2722A
6. 多功能數據擷取器 陶瓷電性量測
7. 螢光光譜儀
8. 色度儀
9. 氣相層析儀
10.TPR
11.冷凍乾燥機
12.直流高壓供應器
13.高速旋轉收集器
14.1200oC箱型高溫爐*2
15.16段程控烘箱
16.球磨機
17.油壓機
18.精密天平
19.3D列印機
20. CHI1203C電化學工作站
21. 常用分析設備(共用儀器)
•X-射線繞射儀
•場發掃描式電子顯微鏡
•能量分散元素分析儀
•感應偶電漿原子放射光譜儀
•原子吸收光譜儀
•傅力葉轉換紅外線光譜儀
•穿透式電子顯微鏡
•AC交流阻抗分析儀
•UV-Vis光譜儀