Device Lab

① Electrode deposition & OPV fabrication system: 금속 또는 비금속 물질을 진공 상태하에서 물체 표면에 박막 형태로 응착 시키는 장치. 주로 OPV, Perovskite Cell에 electrode를 응착시킬 때 사용한다.(Å단위)

② Dry box : 저온(25℃)의 건조한 공기를 강제 순환시켜 습도를 낮추는 장치. 내부에 Spin coater, Hot plate를 포함하고 있어 수분에 민감한 Perovskite layer를 coating, annealing할 때 주로 사용한다.

③ Cell fabrication system : 내부에 Spin coater, Hot plate 포함하고 있어 수분에 민감한 perovskite layer를 coating, annealing할 때 주로 사용한다. (Dry box와 달리 내부에 산소 없이 질소 분위기를 유지함)

④ Clean Room : 공기를 외부로 순환시켜 Device 제작에 문제가 되는 먼지를 제거, 깨끗한 상태를 유지시키며 electrode deposition을 위한 전처리 과정을 수행하는 장소

⑤ Furnace : 일정한 공간으로 둘러싸 물질을 고온으로 가열하기 위한 장치. 주로 Electron Transport Layer(ETL) 층을 coating하고 고온으로 열처리하기 위해 사용한다.

⑥ Clean bench : 공기를 외부로 순환시키는 기능을 하는 작은 Clean Room이라고 할 수 있다. 무해한 물질을 깨끗한 상태에서 보관, 실험하는데 용이하다.