2010.07.09 - 特許庁普及支援課特許情報企画室の説明会

投稿日: 2013/04/25 7:32:26

日 時： ２０１０年７月９日（金） ＡＭ：１０：００～

場 所： 特許庁５階

(東京都千代田区霞が関三丁目４番３号 TEL : 03-3581-1101)

議事要点

１ 【 平成２１年度リリース項目について 】

(1)

ＣＰＡ（中国特許英文抄録)の照会

外国文献ＤＢにおいて、中国の特許英文抄録を照会できるようにする。

(2) ＮＯＴ演算の追加

公報テキスト検索機能にＮＯＴ演算を追加する。

(3) 外国意匠公報の検索・照会

外国(米国・韓国)意匠公報を日本意匠分類で検索、表示できるようにする。

(従前は、米国の意匠公報の書誌情報のみ表示)

(4) 意匠公知資料の書誌検索

一般刊行物(内外国雑誌、内外国カタログ等)を、物品名等で検索できるように

する。

(5) 図形商標検索入力欄追加

ウィーン図形分類の入力欄を３つへと増設する。

(6) 称呼検索入力欄追加

称呼の入力欄を２つに増設し、ＯＲ検索をできるようにする。

２ 【 平成２２年度開発項目について 】

(1)

文献単位のＰＤＦ表示

意匠公報と商標公報を文献単位ＰＤＦにて提供する。

(2)

検索結果一覧のサムネイル表示

意匠の検索結果一覧表示の表示モードとして、サムネイル表示を設ける。

(3)

ハイライト表示 多色化

公報テキスト検索でのハイライト表示において、キーワードごとに色を変える。

(4)

ＷＥＢアクセシビリティの向上

障害者や高齢者などを含めても、誰もが利用しやすいようにＩＰＤＬのレイアウ

ト等を変更する。

３ 【質疑応答 】

(1)

ＩＰＤＬの開発は今後予算内でしか実施しない。(最適化計画をメインにしているた

め。システム自体はＩＰＤＬから進化させるが、ＤＢは今までのものを流用する)

(2) 平成２６年にＩＰＤＬは、審査官端末と同様なアクションができる時期バージョンとな

り、無償ソフトをダウンロードして使用する形になる。