光電半導體製程簡介

摻雜製程: P型半導體、N型半導體、熱擴散

摻雜製程: 離子佈植1

摻雜製程: 離子佈植2

薄膜沉積: 物理氣相沉積(PVD)1

薄膜沉積: 物理氣相沉積(PVD)2

薄膜沉積 : 化學氣相沉積(CVD)1

薄膜沉積 : 化學氣相沉積(CVD)2

微影: 光罩、正光阻與負光阻

微影: 微影製程

微影: 曝光機

蝕刻: 濕式蝕刻

蝕刻: 乾式蝕刻1

蝕刻: 乾式蝕刻2

光電半導體產品製程: OLED製程 1

光電半導體產品製程: OLED製程2

光電半導體產品製程: OLED黃光1

光電半導體產品製程: OLED黃光2

光電半導體產品製程: TFTＬＣＤ

光電半導體產品製程: LED製程

光電半導體產品製程: Digital X-Ray Detector Technology

授課教師