Patent
「氧化侷限面射型雷射元件及其製作」中華民國發明專利證號No.192770, 2003年12月11日~2022年12月26日
「氧化侷限面射型雷射」中華民國發明專利證號No.I247463, 2006年1月11日~2023年11月6日
「Oxide-confined VCSEL device and the method for making the same」US Patent US20040125840A1, July 1, 2004.
「具備量子井結構之膠體量子點電激發光元件及其製作方法」中華民國發明專利證號No.I584494, 2017年5月21日~2035年8月3日。
「INORGANIC QUANTUM DOT LIGHT EMITTING DIODES AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME」US Patent Provisional Application No. 62/437,265.
「可磊晶之散熱基板與其製作方法」中華民國發明專利證號No.I621741, 2018年4月21日~2036年12月19日。
「METHOD OF MANUFACTURING EPITAXIABLE HEAT-DISSIPATING SUBSTRATE」US Patent No 9,978,590B1, May 22, 2018.
「エピタキシーが可能な放熱基板の製作方法」日本專利JP2018198265A, 2018/12/13.