Patents
23. 김명웅, 안솔
패터닝 후 기능화 가능 네거티브 포토레지스트 조성물 및 그의 제조 방법
대한민국 특허, 출원번호 10-2021-0108446, 등록번호 10-2592282 (등록일자: 2023년 10월 17일)
Korean patent, Application No. 10-2021-0108446, Registration No. 10-2592282
22. 김명웅, 손동완, 정장욱
티올화된 리그닌설폰산염 복합체와 이의 제조방법
대한민국 특허, 출원번호 10-2021-0128981, 등록번호 10-2532138 (등록일자: 2023년 5월 9일)
Korean patent, Application No. 10-2021-0128981, Registration No. 10-2532138
21. 김명웅, 김상원, 안솔
감광성 랜덤 공중합체 매트 및 블록공중합체의 자기조립에 의한 박막이 형성된 기판
대한민국 특허, 출원번호 10-2020-0060174, 등록번호 10-2307588 (등록일자: 2021년 9월 27일)
Korean patent, Application No. 10-2020-0060174, Registration No. 10-2307588
20. 김명웅, 신내철, 김기민, 안솔
패턴화된 페로브스카이트 층의 형성방법 및 이에 의하여 제조되는 패턴을 포함하는 페로브스카이트 층
대한민국 특허, 출원번호 10-2019-0093528, 등록번호 10-2239478 (등록일자: 2021년 4월 7일)
Korean patent, Application No. 10-2019-0047294, Registration No. 10-2210117
19. Padma Gopalan, Daniel P. Sweat , Xiang Yu, Myungwoong Kim
Block Copolymers with high Flory-Huggins Interaction Parameters for Block Copolymer Lithography
US patent No. 10,913,873 B2 (Issued on Feb. 9, 2021)
18. 김명웅, 김성환, 손동완
온도감응성 고분자 박막을 갖는 광공진기를 포함하는 컬러 필터
대한민국 특허, 출원번호 10-2019-0047294, 등록번호 10-2210117 (등록일자: 2021년 1월 26일)
Korean patent, Application No. 10-2019-0047294, Registration No. 10-2210117
17. 박성진, 이태우, 오정훈, 김명웅, 김영훈, 안솔
그래피틱 카본 나이트라이드의 제조방법, 그래피틱 카본 나이트라이드-폴리스티렌 복합체의 제조방법 및 그래피틱 카본 나이트라이드-폴리스티렌 복합체를 포함하는 OLED 소자
대한민국 특허, 출원번호 10-2017-0165893, 등록번호 10-2065686 (등록일자: 2020년 1월 7일)
Korean patent, Application No. 10-2017-0165893, Registration No. 10-2065686
16. Padma Gopalan, Daniel P. Sweat, Myungwoong Kim
Methods of Making Crosslinked Copolymer Films from Inimer-Containing Random Copolymers
US patent No. 10,465,087 B2 (Issued on Nov. 5, 2019)
15. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, Myungwoong Kim
Nanostructured Graphene with Atomically-Smooth Edges
US patent No. 10,252,914 B2 (Issued on Apr. 9, 2019)
14. Padma Gopalan, Daniel P. Sweat, Myungwoong Kim
Inimer-Containing Random Copolymers and Crosslinked Copolymer Films for Dense Polymer Brush Growth
US patent No. 10,106,699 B2 (Issued on Oct. 23, 2018)
13. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, 김명웅
원자적으로 평탄한 가장자리를 갖는 나노구조화된 그래핀
대한민국 특허, 출원번호 10-2014-7011497, 등록번호 10-1808334 (등록일자: 2017년 12월 6일)
Korean patent, Application No. 10-2014-7011497, Registration No. 10-1808334
12. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, Myungwoong Kim
Barrier Guided Growth of Microstructured and Nanostructured Graphene and Graphite
US patent No. 9,803,292 B2 (Issued on Oct. 31, 2017)
11. Padma Gopalan, Daniel P. Sweat , Xiang Yu, Myungwoong Kim
Block Copolymers with high Flory-Huggins Interaction Parameters for Block Copolymer Lithography
US patent No. 9,587,136 B2 (Issued on Mar. 7, 2017)
10. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, 김명웅
마이크로구조화 및 나노구조화된 그래핀 및 그래파이트의 배리어 유도형 성장 방법
대한민국 특허, 출원번호 10-2014-7007726, 등록번호 10-1668691 (등록일자: 2016년 10월 18일)
Korean patent, Application No. 10-2014-7007726, Registration No. 10-1668691
9. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, Myungwoong Kim
Nanostructured Graphene with Atomically-Smooth Edges
US patent No. 9,394,177 B2 (Issued on Jul. 19, 2016)
8. Padma Gopalan, Eungnak Han, Myungwoong Kim
Crosslinked Random Copolymer Films for Block Copolymer Domain Orientation
US patent No. 9,115,255 B2 (Issued on Aug. 25, 2015)
7. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, Myungwoong Kim
Methods of Fabricating Large-Area, Semiconducting Nanoperforated Graphene Materials
US patent No. 9,114,998 B2 (Issued on Aug. 25, 2015)
6. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, Myungwoong Kim, Jonathan W. Choi
Methods for the Fabrication of Graphene Nanoribbon Arrays Using Block Copolymer Lithography
US patent No. 9,105,480 B2 (Issued on Aug. 11, 2015)
5.Padma Gopalan, Daniel P. Sweat, Myungwoong Kim, Eungnak Han
Block Copolymer-Based Mask Structures for the Growth of Nanopatterned Polymer Brushes
US patent No. 9,097,979 B2 (Issued on Aug. 4, 2015)
4. Padma Gopalan, Daniel P. Sweat, Jonathan W. Choi, Myungwoong Kim
Degradable Neutral Layers for Block Copolymer Lithography Applications
US patent No. 8,999,623 B2 (Issued on Apr. 7, 2015)
3. Michael S. Arnold, Padma Gopalan, Nathaniel S. Safron, Myungwoong Kim
Methods of Fabricating Large-Area, Semiconducting Nanoperforated Graphene Materials
US patent No. 8,268,180 B2 (Issued on Sep. 18, 2012)
2. 김명웅, 박주현, 임영택, 김형기, 이준호
스핀 온 카본 하드마스크용 축중합체 및 이의 제조방법과 축중합체를 포함하는 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 패턴 형성 방법
대한민국 특허, 출원번호 10-2007-0072540, 등록번호 10-0874655 (등록일자: 2008년 12월 11일)
Korean patent, Application No. 10-2007-0072540, Registration No. 10-0874655
1. Myungwoong Kim, Joo-Hyeon Park, Young-Taek Lim, Hyung-Gi Kim, Jong-Don Lee, Seung-Duk Cho
Copolymer and Composition for Organic Antireflective Layer
US patent No. US 8,021,826 B2 (Issued on Sep. 20, 2011)