化合物半導体の技術トレンドについて、学術情報と特許情報をそれぞれデータベース分析しています。学術情報分析ではキーワードによる時系列分析や研究インパクト指標による分析、可視化を行なっています。特許分析のパートではIPC分類を使った分析を学術文献と併せたクロス集計、分析して可視化を行なっています。
近年注目されているGate All Around (GAA) FETの研究の歴史とカギとなる技術について学術情報と特許情報の分析、可視化を行なったレポートです。
また、世界中の半導体研究開発をサポートするIMECが発表している学術情報、特許情報について時系列分析と共にデバイスノードの発展、中心となった技術などを分析、可視化しています。
特許分析で活用されるIPC分類を学術文献の調査分析に利用して、技術トピック別にトレンド分析をしたレポートです。学術情報の評価指標である引用インパクトや閲覧インパクトとIPC分類を使って注目技術分野、キープレイヤーである企業の発表技術について深掘りしています。
半導体製造プロセスで重要なウェハ平坦化技術や洗浄プロセスにおける材料開発を目指した学術情報の検索、利用をまとめたレポートです。材料開発における化合物データベースの利活用例として、書誌データベースから技術を絞り込んで、目的の技術分野における材料開発に参考となる化合物の物性情報へアプローチするプロセスの提案です。
半導体分野の技術用語は、キーワード検索しても目的とする内容が出てこなかったり、言葉のちょっとした言い回しや呼び方の違いで検索漏れが発生しやすいです。この分析レポートでは統制語によるデータ検索、分析を行うことで欲しい情報を抜け漏れなく収集する方法論についてまとめています。
半導体デバイス技術のベンチマークとして重要なSPIEをはじめとする学会情報(学会論文)を書誌データベースで公立邸に検索して技術トレンド分析するレポートです。時系列での分析やデバイス製造メーカー別の分析などもデータセットを保持することで容易に実施できることを実例とともに紹介します。