Publication

2010年

論文・特許・学会要旨など

査読付き投稿論文

1. “Preparation of silica hybrid membranes for high temperature gas separation”, Mikihiro Nomura, Keita Momma, Yoshio Negishi, Emi Matsuyama, Sayuka Kimura, Desalination Water Treat., 17 (2010), 288-293

2. "High temperature C3H6/C3H8 separation through silica hybrid membranes ", Mikihiro Nomura, Keita Monma, Sayuka Kimura, Emi Matsuyama, Ryo Miyake, Keisuke Utsumi, Membrane, 35(5), 236-241(2010) (in Japanese：“シリカ複合膜による高温C3H6/C3H8分離”野村幹弘，門間慶太，木村紗有佳，松山絵美，三宅遼，内海惠介，膜，35(5),236-241 (2010))

国際学会要旨

3. “High temperature C3H6/C3H8 separation through silica hybrid membranes”, Mikihiro Nomura, Keita Monma, Yoshio Negishi, Emi Matsuyama, Sayuka Kimura, Proc. of 11th International Conference on Inorganic Membranes, 415, Washington, U. S. A., 19 July (2010)

4. “Preparation of Li4SiO4 membranes for high temperature CO2 separation by using a solid conversion method”, Youichiro Nishi, Masataka Sugiyama, Mikihiro Nomura, Proc. of 11th International Conference on Inorganic Membranes, 917, Washington, U. S. A., 20 July (2010)

5. “Diffusion control of zeolite adsorbents for HLW by using a high temperature CVD method”, Ryuhei Ono, Masako Kawasaki, Koichi Onodera, Mikihiro Nomura, Proc. of The Third International Symposium on Innovative Nuclear Energy Systems –Innovative Nuclear Technologies for Low-Carbon Society–,P-123 , Tokyo, Japan (2010); November 3

6. “High temperature gas separation through silica hybrid membranes prepared by using a counter diffusion CVD method”, Mikihiro Nomura, Keita Monma, Emi Matsuyama, Sayuka Kimura, Ryo Miyake, Keisuke Utsumi, Proc. of 3rd International Conference on Ceramics, 164, Osaka, Japan (2010); November 18

国内学会要旨

1. “非水系ゾルゲル法による新規分子ふるい膜の開発”， 與芝優太，増田貴大，一宮章紘，永直文，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D26，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

2. “低温焼成法を利用したゼオライト膜改質法の開発”，横田晃治，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D27，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

3.“フリーズドライゲル法による無機多孔質材料の開発”，大本一哉，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D19，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

30.“CVD法によるゼオライトイオン交換速度の制御”，小野竜平，川﨑昌子，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D17，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

4.“粒界制御による水処理用ゼオライト膜の開発”，池上真利奈，川越敬史，内田広海，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D10，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

5.“対向拡散CVD法によるシリカ複合膜の細孔径制御法の検討”，三宅遼，木村紗有佳，松山絵美，門間慶太，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D21，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

6.“シリカ複合膜の後処理による耐久性向上”，内海惠介，松山絵美，門間慶太，野村幹弘，第12回　化学工学会学生発表会東京大会，D22，(2010)，芝浦工業大学，2010年3月6日

7.“光触媒を用いた水の分解により生成するH2／O2混合ガスの膜分離”， 白井聡太，飯田高史，田中一宏，喜多英敏，木村紗有佳，野村幹弘，杉山未希，酒多喜久，今村速夫，化学工学会第75回年会，A107 (2010)，鹿児島大学，2010年3月18日

8.“分子ふるいシリカ複合膜の耐久性検討”，野村幹弘，門間慶太，木村紗有佳，松山絵美，化学工学会第75回年会，A201 (2010)，鹿児島大学，2010年3月19日

9. “Li4SiO4を用いた高温二酸化炭素分離膜の開発”，西陽一郎，村井啓祐，野村幹弘，日本膜学会第32年会，P-10S，(2010)，産業技術総合研究所　臨海副都心センター，2010年5月13日

10.“表面形態制御によるPd膜の水素透過特性の改善”，小野翼，坪野哲明，山本茜，鈴木綱一，野村幹弘，日本膜学会第32年会，P-11S，(2010)，産業技術総合研究所　臨海副都心センター，2010年5月13日

11.“対向拡散CVD法を用いたシリカ複合膜の細孔径制御”，三宅遼，木村紗有佳，松山絵美，門間慶太，野村幹弘，日本膜学会第32年会，P-12S，(2010)，産業技術総合研究所　臨海副都心センター，2010年5月13日

12.“光触媒水素製造プロセスに用いる光架橋ポリイミド複合膜の作製と性能評価”，飯田高史，白井聡太，田中一宏，喜多英敏，杉山未希，酒多喜久，今村速夫，野村幹弘，日本膜学会第32年会，P-4S，(2010)，産業技術総合研究所　臨海副都心センター，2010年5月13日

13.“無機膜開発のためのフリーズドライゲル法の検討”，大本一哉，野村幹弘，分離技術会　年会2010，S8-P12，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日

14. “ゼオライト粒界を利用した水処理膜の開発”，池上真利奈，川越敬史，内田広海，野村幹弘，分離技術会　年会2010，S8-P16，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日

15. “対向拡散CVD法によるシリカ複合膜の後処理”，内海惠介，松山絵美，門間慶太，野村幹弘，分離技術会　年会2010，S8-P10，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日

16. “対向拡散CVD法によるゼオライト膜後処理技術の開発”，小野竜平，斉藤佑輔，野村幹弘，喜多英敏，分離技術会　年会2010，S8-P11，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日

17. “ゾルゲル法を利用したゼオライト膜改質法の開発”，小林由憲，横田晃治，野村幹弘，分離技術会　年会2010，S8-P14，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日

18. “非水系ゾルゲル法による新規有機無機複合膜の開発”，徳永有紀子，與芝優太，一宮章紘，永直文，野村幹弘，分離技術会　年会2010，S8-P15，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日

19. “高温二酸化炭素分離膜のためのセラミック合成法の開発”， 村井啓祐，西陽一郎，野村幹弘，分離技術会　年会2010，S8-P13，(2010)，明治大学アカデミーコモン，2010年6月4日 

20. “後処理によるゼオライト膜の改良法の開発”，小野竜平，斉藤佑輔，野村幹弘，喜多英敏，化学工学会宇都宮大会2010，PD105，(2010)，宇都宮大学，2010年8月19日

21. “有機溶媒分離用シリカ複合膜の開発”，松山絵美，内海惠介，三宅遼，木村紗有佳，門間慶太，野村幹弘，化学工学会宇都宮大会2010，PE122，(2010)，宇都宮大学，2010年8月19日

22. “省エネルギー社会に向けた無機分離膜の進展”，野村幹弘，分離技術会　第38回夏季研究討論会，I-6，(2009)，伊豆長岡　寿荘，2010年8月27日

23. “シリカ複合膜を用いたベンゼン－シクロヘキサン系のPV分離”， 松山絵美，木村紗有佳，内海惠介，三宅遼，門間慶太，野村幹弘，化学工学会第42回秋季大会，W2P01，同志社大学，2010年9月7日

24. “シリカ後処理によるゼオライト膜の改質”，野村幹弘，横田晃治，小林由憲，化学工学会第42回秋季大会，V318， (2010)，同志社大学，2010年9月8日

25. “シリカ複合膜の細孔径制御法の検討”，三宅遼，木村紗有佳，松山絵美，門間慶太，野村幹弘，第10回無機膜研究会，P-3，(2010)，かたくら 諏訪湖ホテル，2010年10月22日

26. “親水性ゼオライト膜の後処理による選択性向上”， 小野竜平，野村幹弘，第10回無機膜研究会，P-3，(2010)，かたくら 諏訪湖ホテル，2010年10月22日 

27. “分子ふるいシリカ複合膜の作製とその透過特性”，野村幹弘，門間慶太，松山絵美，木村紗有佳，内海惠介，三宅遼，膜シンポジウム2010，212 (2010)，京都大学， 2010年11月20日

28. “水素/酸素混合ガスの膜分離”，田中一宏，喜多英敏，酒多喜久，今村速夫，野村幹弘，膜シンポジウム2010，214 (2010)，京都大学， 2010年11月20日

29. “電気めっきPd薄膜へのセラミック粒子導入”，小野翼，山本茜，坪野哲明，鈴木綱一，野村幹弘，第30回水素エネルギー協会大会，P-02，タワーホール船堀，2010年12月6日

30. “新規CVD法を用いた水素選択透過シリカ複合膜の開発”，野村幹弘，門間慶太，松山絵美，木村紗有佳，三宅遼，内海惠介，第20回日本MRS学術シンポジウム「エコイノベーションを切り拓く先進材料研究II」，F-04-I (2010)，横浜市開港記念会館，2010年12月21日

31. “水素透過Pd薄膜のためのセラミック粒子導入法の検討”，小野翼，山本茜，坪野哲明，鈴木綱一，野村幹弘，第20回日本MRS学術シンポジウム「エコイノベーションを切り拓く先進材料研究II」，F-P02-B (2010)，横浜市開港記念会館，2010年12月22日

解説記事など

32. ”エネルギー効率利用のための無機系分子ふるい膜の開発”，野村幹弘，NOK technical report, 22 , 1-4 (2010)