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2008年

論文・特許・学会要旨など

査読付き投稿論文

1. “Development of an all-ceramic module with silica membrane tubes for high temperature hydrogen separation”, Yasushi Yoshino, Takehiro Suzuki, Hisatomi Taguchi, Mikihiro Nomura, Shin-ichi Nakao, Naotsugu Itoh, Sep. Sci. Tech., 43(13), 3432-3447 (2008)

国際学会要旨

2. “Preparation of molecular sieve silica membranes by using a counter diffusion CVD method”, Keita Monma, Toshihiro Nagayo and Mikihiro Nomura, Proc. of 10th International Conference on Inorganic Membranes, Poster II-30, Tokyo, Japan (2008)

3.　“Development of silica membrane module for hydrogen separation at high temperature”, Yasushi Yoshino, Takehiro Suzuki, Yasunori Ando, Mikihiro Nomura, Shin-ichi Nakao, Naotsugu Itoh, , Proc. of 10th International Conference on Inorganic Membranes, 1B03, Tokyo, Japan (2008)

4.　“Development of a MFI zeolite membrane for water purification by controlling pore sizes of intercrystalline pathways”, Mikihiro Nomura and Hiromi Uchida, Proc. of 8th International Conference on Separation Science and Technology, EO-03, Karuizawa, Japan (2008)

特許

5. ”水素選択透過膜およびその製造方法”, 鈴木綱一，芹澤徹，野村幹弘，特願2008-125698 (2008)

6. ”固体シリカ膜、それを用いた炭化水素分離膜およびその製造方法”,羽賀史浩，野村幹弘，カルロス　ゴーン，特願2008-240636 (2008)

国内学会要旨

1. “粒界制御によるゼオライトろ過膜の開発”，内田広海，野村幹弘，化学工学会第73年会，D109 (2008)，静岡大学，2008年3月17日

2. “メタン部分酸化のための水素透過型膜反応器の開発”，野村幹弘、白熊遼大，日本膜学会第30年会，P-4，(2008)，東京理科大学，2008年5月15日

3. “電気めっき法によるPd薄膜の表面形態制御”，坪野哲明，野村幹弘，鈴木綱一，分離技術会，年会2008，S7-P7，明治大学，2008年6月7日

4. “対向拡散CVD法で作製したアモルファスシリカ系水素分離膜のガス分離特性と高温耐水蒸気特性”，永野孝幸、佐藤功二、幡谷耕二、幾原裕美、高橋誠治、岩本雄二，野村幹弘，中尾真一，日本セラミックス協会，第21回秋季シンポジウム，2P-31，北九州国際会議場，2008年9月18日

5. “低温CVD法によるシリカ複合膜の分離性能”，野村幹弘，門間慶太，化学工学会第40回秋季大会，U116 (2008)，東北大学，2008年9月24日

6. “水素分離用Pd薄膜の表面制御法の検討”，野村幹弘，坪野哲明，鈴木綱一，化学工学会第40回秋季大会，F302 (2008)，東北大学，2008年9月26日

7. “オゾン系対向拡散CVD法によるシリカ複合膜の作製”，野村幹弘，門間慶太，根岸嘉生，膜シンポジウム2008，103，大阪大学，2008年11月14日

8. “高温CVDによるMFI膜の後処理法の検討”，野村幹弘、吉良雅彦、森聡子，第２４回ゼオライト研究発表会，C24，(2008)，タワーホール船堀，2008年11月27日

9. “低温対向拡散CVD法による水素選択透過シリカ複合膜の開発”，野村幹弘，門間慶太，根岸嘉生，第28回水素エネルギー協会大会，A06，タワーホール船堀，2008年12月11日

解説記事など

10. ” CVD法による水素分離膜作製”，野村幹弘，表面技術，59(1), 28-32 (2008)

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