Publication
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2005年
論文・特許・学会要旨など
査読付き投稿論文
1. “Preparation of a stable silica membrane by a counter diffusion chemical vapor deposition method”, Mikihiro Nomura, Kenta Ono, Suraj Gopalakrishnan, Takashi Sugawara and Shin-ichi Nakao, J. Membr. Sci., 251(1-2), 151-158 (2005)
2. “Development of crystalline and amorphous silica membranes and their permeation properties”, Mikihiro Nomura, Membrane, 30(4), 198-203 (2005) (in Japanese：“結晶性、非結晶性シリカ膜の開発と透過機構の解明”野村幹弘，膜，30(4), 198-203 (2005))
3. “Optimization of the process parameters of an electrochemical cell in the IS process”, Mikihiro Nomura, Hiroyuki Okuda, Seiji Kasahara and Shin-ichi Nakao, Chem. Eng. Sci., 60(24), 7160-7167 (2005)
4. “Investigation of a hydrothermal stable hydrogen permselective silica membrane for a large membrane area module”, Mikihiro Nomura, Suraj Gopalakrishnan, Hitoshi Aida, Takashi Sugawara, Shin-ichi Nakao, Satoshi Yamazaki, Yuji Iwamoto, Ryuji Kojima, Aiko Nakao Membrane, 30(5), 275-281 (2005) (in Japanese：“耐水蒸気水素選択透過シリカ膜のモジュール化のための研究”野村幹弘，Suraj Gopalakrishnan，会田均，菅原孝，中尾真一，山崎哲，岩本雄二，小島隆二，中尾愛子，膜，30(6), 275-281 (2005))
5. “Evaluation of the IS process featuring membrane techniques by total thermal efficiency”, Mikihiro Nomura, Seiji Kasahara, Hiroyuki Okuda and Shin-ichi Nakao, Int. J. Hydrogen Energy, 30(13-14), 1465-1473 (2005)
国際学会要旨
6. “Stable multi-membrane module prepared by counter diffusion CVD for high temperature hydrogen separation”, Suraj Gopalakrishnan, Hitoshi Aida, Mikihiro Nomura, Takashi Sugawara and Shin-ichi Nakao, AIChE 2005 Spring National Meeting, Hyatt Regency, Atlanta, GA, U.S.A. (2005)
7. “Development of a hydrothermal stable silica membrane reactor for efficient hydrogen production”, Mikihiro Nomura, Masahiro Seshimo, Hitoshi Aida, Takashi Sugawara, Toru Ishikawa, Mitsutaka Kawamura, and Shin-ichi Nakao, 8th Asian Hydrogen Energy Conference, Tsinghua University, Beijing, China. (2005)
8. “Application of a silica membrane reactor to steam reforming reaction of methane”, Mikihiro Nomura, Masahiro Seshimo, Hitoshi Aida, Takashi Sugawara, Toru Ishikawa, Mitsutaka Kawamura, and Shin-ichi Nakao, Proc. of 16th Annual Meeting of North American Membrane Society, 765, Providence, Rhode Island, USA (2005)
9. “Preparation of a multi-membranes module for high temperature hydrogen separation”, Suraj Gopalakrishnan, Mikihiro Nomura, Takashi Sugawara and Shin-ichi Nakao, Proc. of International Congress on Membrane and Membrane Processes 2005, PM-140, Seoul, Korea (2005)
10. “Characterization of a stable silica membrane prepared by a counter diffusion chemical vapor deposition”, Mikihiro Nomura, Hitoshi Aida, Suraj Gopalakrishnan, Takashi Sugawara and Shin-ichi Nakao, Proc. of International Congress on Membrane and Membrane Processes 2005, Th09C-3, Seoul, Korea (2005)
11. “Stable silica membranes prepared by using a counter diffusion chemical vapor deposition for high temperature hydrogen separation”, Mikihiro Nomura, Suraj Gopalakrishnan, Hitoshi Aida, Takashi Sugawara and Shin-ichi Nakao, Proc. of 2005 Korea-Japan Joint Workshop on Advanced Semiconductor Process and Equipments, p101-p104,Yongpyong, Korea (2005)
12. “Preparation and characterization of hydrothermally stable gamma alumina composite mesoporous membrane”, Md. Hasan Zahir, Koji Sato, Yuji Iwamoto, Mikihiro Nomura, Shin-ichi Nakao, Proc. of The 22nd International Japan-Korea Seminar on Ceramics, B15, Nagoya, Japan (2005)
13. “Effective hydrogen production by using a catalyst integrated membrane reactor”, Mikihiro Nomura, Masahiro Seshimo, Hitoshi Aida, Suraj Gopalakrishnan, Takashi Sugawara, Toru Ishikawa, Mitsutaka Kawamura, and Shin-ichi Nakao, Proc. of The 2005 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (PACIFICHEM2005), #55-430, Honolulu, Hawaii, USA (2005)
14. “Hydrogen separation through a thin porous silica membrane prepared by a counter diffusion CVD method”, Shin-ichi Nakao, Hitoshi Aida, Suraj Gopalakrishnan, Takashi Sugawara and Mikihiro Nomura, Proc. of The 2005 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (PACIFICHEM2005), #164-1461, Honolulu, Hawaii, USA (2005)
15. “Flowsheet study of the thermochemical water-splitting IS process for effective hydrogen production”, Seiji Kasahara, Kaoru Onuki, Mikihiro Nomura and Shin-ichi Nakao, AIChE 2005 Spring National Meeting, 75a, Hyatt Regency, Atlanta, GA, U.S.A. (2005)
特許
16. ”水素ガス分離膜の製造方法”, バラゴパル エヌ ナイル，吉野泰，中尾真一，野村幹弘，菅原孝，スラジ ゴパラクリシュナン，特願2005-63095 (2005)
国内学会要旨
1. “対向拡散CVD法による水素選択透過シリカ膜のキャラクタリゼーション”，野村幹弘，会田均， Suraj Gopalakrishnan，菅原孝，中尾真一，化学工学会第70年会 H109， (2005)，名古屋大学，2005年3月22日
2. “熱化学水素製造法ISプロセスの熱効率に対する新規分離膜技術の効果”，笠原清司，小貫薫，野村幹弘，中尾真一，化学工学会第70年会 O203， (2005)，名古屋大学，2005年3月23日
3. “結晶性、非結晶性シリカ膜の開発と透過機構の解明”野村幹弘，日本膜学会第27年会，(2005)，早稲田大学，2005年5月20日
4. “カチオン交換膜を用いたブンゼン反応の熱力学的解析”，田中伸幸，奥田泰之，野村幹弘，中尾真一，日本膜学会第27年会 境界1-4，(2005)，早稲田大学，2005年5月20日
5. “対向拡散CVD法による水素分離シリカ膜の開発”，野村幹弘，東京大学２１世紀COE「動的分子論に立脚したフロンティア基礎化学」および「化学を基礎とするヒューマンマテリアル創成」第２回合同シンポジウム－－次世代を担う科学の息吹－－，p 19，(2005)，東京大学，2005年6月4日
6. “対向拡散CVD法による触媒複合化シリカ膜反応器の開発”，野村幹弘，瀬下雅博，会田均，菅原孝，石川徹，河村光隆，中尾真一，化学工学会第37回秋季大会，(2005)，岡山大学，2005年9月16日
7. “対向拡散CVD法により製膜した複合金属酸化物膜の水蒸気安定性”，会田均，野村幹弘，菅原孝，中尾真一，化学工学会第37回秋季大会，(2005)，岡山大学，2005年9月16日
8. “放射線法によるケイ素系高分からの SiC ガス分離膜の開発”，杉本雅樹，ラドスラフ ヴァフ，吉川正人，池野谷和彦，小貫薫，野村幹弘，中尾真一，金属学会2005年（第137回）秋季大会，41，(2005)，広島大学，2005年9月30日
9. “対向拡散CVD法による水素透過シリカ膜の製膜メカニズムの検討”，野村幹弘，Suraj Gopalakrishnan，会田均，菅原孝，中尾真一，膜シンポジウム2005， (2005)，京都大学，2005年11月24日
10. “水蒸気改質用水素透過シリカ膜のモジュール化研究”，野村幹弘，Suraj Gopalakrishnan，会田均，菅原孝，中尾真一，第25回水素エネルギー協会大会， (2005)，タワーホール船橋，2005年12月14日