Оборудование

Аналитический двухлучевой (электронно-ионный) растровый электронный микроскоп Neon 40 EsB CrossBeam позволяет исследовать образцы в наномасштабе, получая поверхностные изображения высокого разрешения с помощью электронного и ионного пучков, а также различных детекторов, таких как In-lens SE, EsB и BSE.

Установка оборудована системой управления электронно-лучевой/ионно-лучевой литографией Raith Elphy Plus и укомплектована системами локального напыления платины, вольфрама и изолятора (SiO2), а также травления-окисления молекулами воды.

Установка микротравления сфокусированным ионным пучком (FIB) позволяет получать изображение поверхности с разрешением до 4 нм, а также изготавливать 3D-структуры с эффективными геометрическими размерами от 25 нм на поверхностях до 60x60 мм с помощью высокоточного контролируемого послойного травления материала по заданному шаблону и локального напыления платины или углерода под ионным пучком.

Микроскоп позволяет работать в проходящем и отраженном свете с функциями дифференциально-интерференционного контраста с простой и круговой поляризацией и интерферометром.

Микроскоп укомплектован цифровой видеокамерой для документирования полученных высококачественных изображений и программным обеспечением для обработки и анализа изображений.

Измерительный стенд (нановольтметр, sourcemeter, RF-генератор, мультиметры Keythley, источники питания) позволяет проводить широкий спектр различных транспортных измерений:

• вольт-амперные характеристики

• ВЧ-измерения

• измерения малых сигналов

• температурная и полевая зависимости

Подключение образцов к электрической схеме осуществляется с помощью зондовой станции или различных криогенных пробов для низкотемпературных измерений.

Система лазерной абляции на основе лазера ЛТИ-403 и вакуумного поста ВУП-4 позволяет напылять металлические плёнки нанометровой толщины.

Используется для изготовления низкоомных контактов к квазидвумерным и квазиодномерным объектах размерами от нескольких микрон.

Лазерная система интегрирована с оптическим микроскопом, что позволяет выполнять локальное лазерное травление тонких плёнок.

Турбомолекулярный откачной пост позволяет проводить эксперименты в условиях высокого вакуума, а также используется для откачки криостата, криогенных пробов, кварцевого реактора, вакуумных камер и вакуумных систем хранения образцов.

Кварцевый реактор позволяет выполнять контролируемый нагрев в высоком вакууме, а также в атмосфере инертного газа (аргон, гелий) в диапазоне температур от комнатной до 1200 ^оC. Для автоматизации нагрева и стабилизации температуры имеется программное обеспечение.

Заливной гелиевый/азотный криостат с откачкой для проведения транспортных измерений в диапазоне температур до 1.5К в магнитном поле до 2 Тл.

Развёртка магнитного поля осуществляется с помощью электромагнита и блока питания постоянного тока.