研究会の概要

分子研研究会（学協会連携）・放射光学会第8回若手研究会 "軟X線イメージングの描く未来"日時： 2015/9/7（月） - 9/8（火）場所：分子科学研究所明大寺キャンパス〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地（名鉄東岡崎駅より徒歩７分）○研究会

場所：研究棟会議室２０１号室

○ポスター会場および研究交流会

日時：9/7 午後6時～

場所：実験棟４０６、４０７号室（変更になりました）

交流会費：一般4,000円、学生1,000円

○UVSOR見学会

日時：9/8 午後1時～

参加受付時に、登録をお願い致します

主催：分子科学研究所、日本放射光学会

協賛：日本光学会、日本分析化学会、X線結像光学研究会

世話人：大東琢治（分子科学研究所）、豊田光紀（東北大学）、原田哲男（兵庫県立大学）

分子科学研究所へのアクセス

https://www.ims.ac.jp/about/campus/access.html

キャンパスマップ（明大寺キャンパス）

https://www.ims.ac.jp/about/campus/shonai.html

研究会の討論主題

（1）軟Ｘ線イメージング技術開発

（2）軟Ｘ線イメージングへの期待

（3）ユーザー利用研究

（4）異なるアプローチのイメージング

開催趣旨

波長1-30nm(50~1500 eV)の軟Ｘ線を用いたイメージングでは、短波長性による高い空間分解能に加えて、珪素・炭素・窒素などの軽元素の内殻吸収端による元素コントラストを利用できる。このため、軟Ｘ線イメージングは、生体や高分子ポリマーなど、軽元素ナノ構造体を可視化する新手法として大いに期待できる。一方で、軟Ｘ線領域では、明るい光学素子や光源等の要素技術が開発の途上であったため、議論は個々の技術開発の各論に集中していた。このため、イメージング技術で先行する硬Ｘ線域と比較して、軟Ｘ線イメージング全体を俯瞰して論じる機会は、これまで極めて少なかった。

進歩が緩やかであった軟Ｘ線イメージングの世界は、微細加工技術やPCの計算能力の急増を背景とする要素技術の進歩と、先進的なユーザーによる先駆的応用により、ここ数年、非連続的な進歩・展開を見せている。例えば２次電池用の高分子材料を対象とした顕微分析による応用研究などは、近年、急速にユーザーを増やしつつある主題である。このような、ユーザー側から積極的な要求が高まりつつある現在こそ、これまでに為し得なかった、要素・装置開発者とユーザーが同平面上で軟Ｘ線イメージング技術を議論し、コミュニティを形成する好機と考えられる。そこで本研究会では講演テーマとして、（1）軟Ｘ線イメージング技術開発、非ユーザーの（2）軟Ｘ線イメージングへの期待、（3）ユーザー利用研究、（4）異なるアプローチのイメージングの４項目を設け、これら多角的視点から軟Ｘ線イメージング技術の現状を明確にし、そこを起点に技術の未来像を論ずる事を旨とする。

問い合わせ

分子科学研究所・大東琢治（ohigashiアットims.ac.jp）

「アット」を「@」に変えてメールしてください。